特許
J-GLOBAL ID：200903011296448718

多重露光描画装置および多重露光描画方法

発明者：
奥山 隆志

奥山 隆志 について


出願人/特許権者：
ペンタックス株式会社

ペンタックス株式会社 について


代理人 (1件)： 松浦 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-247935
公開番号（公開出願番号）：特開2003-057834
出願日： 2001年08月17日
公開日（公表日）： 2003年02月28日
要約：
【要約】【課題】 光学系のディストーションを考慮した回路パターンを高精度に描画する。【解決手段】 マトリクス状に配列された多数のマイクロミラーと、これらマイクロミラーからの光学像を投影する光学系とを持つ露光ユニットを用いて、多重露光により描画面上に所定パターンを描画する。各露光ユニットにおけるマイクロミラーの相対位置を示す露光点座標データと、描画面に対する各露光ユニットの相対位置を示す露光位置データとを加算し、読み出しアドレスデータを生成する。露光点座標データは光学系のディストーションを考慮した実測値である。この読み出しアドレスデータに対応するラスタデータをビットマップメモリ52から読み出して露光データメモリ54に格納し、格納された露光データを個々のマイクロミラーに与える。
請求項（抜粋）：
マトリクス状に配列された多数の変調素子と、各変調素子により形成された光学像を描画面上に投影する光学系とを有する露光ユニットと、所定パターンのラスタデータを保持するメモリ手段と、前記描画面における個々の前記変調素子による光学像の相対位置を示す座標データを算出する算出手段と、前記座標データに対応するラスタデータを読み出して、前記露光ユニットの個々の前記変調素子に与えるべき露光データを生成する露光データ生成手段と、前記露光データに基づいて各変調素子を駆動制御する変調素子制御手段とを備え、前記露光ユニットを用いて多重露光することにより前記所定パターンを前記描画面上に描画することを特徴とする多重露光描画装置。
IPC (5件)：
G03F 7/20 501 ,  G02B 26/08 ,  G03F 9/00 ,  G09G 3/20 631 ,  G09G 3/34
FI (5件)：
G03F 7/20 501 ,  G02B 26/08 E ,  G03F 9/00 Z ,  G09G 3/20 631 U ,  G09G 3/34 D
Fターム (20件)：
2H041AA16 ,  2H041AB14 ,  2H041AC06 ,  2H041AZ01 ,  2H041AZ05 ,  2H097AA02 ,  2H097AA11 ,  2H097BA10 ,  2H097BB10 ,  2H097KA01 ,  2H097LA09 ,  5C080AA18 ,  5C080BB05 ,  5C080DD07 ,  5C080DD30 ,  5C080EE17 ,  5C080GG12 ,  5C080JJ02 ,  5C080JJ05 ,  5C080JJ06
引用特許：
出願人引用 (16件)
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審査官引用 (14件)
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