特許
J-GLOBAL ID：200903038272768350

露光装置及び露光装置の制御方法

発明者：
宮島 義一

宮島 義一 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (4件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-317323
公開番号（公開出願番号）：特開2005-086030
出願日： 2003年09月09日
公開日（公表日）： 2005年03月31日
要約：
【課題】 液浸方式による露光装置の生産性を向上させる。【解決手段】 原版のパターンを投影光学系を介して、液体供給ユニットにより供給される液体に浸した基板に投影し、転写する露光装置は、計測領域内において、基板を位置決めする第1基板ステージと、位置決めされた基板に関するアライメント情報及び面形状に関する情報を計測する計測ユニットと、計測ユニットにより計測処理がされた基板の表面を、液体供給ユニットにより供給される液体により浸した基板を、露光領域内において位置決めする第2基板ステージと、基板に対し、原版のパターンを転写する露光ユニットと、計測ユニットにおける計測処理と、露光ユニットにおける転写処理と、を並列に実行させる制御ユニットと、を有する。【選択図】 図4A
請求項（抜粋）：
原版のパターンを投影光学系を介して、液体供給手段により供給される液体に浸した基板に投影し、転写する露光装置であって、 計測領域内において、基板を位置決めする第1基板ステージと、 前記位置決めされた基板に関するアライメント情報及び面形状に関する情報を計測する計測手段と、 前記計測手段により計測処理がされた基板を、前記液体供給手段により供給される前記液体に浸し、露光領域内において位置決めする第2基板ステージと、 前記計測領域で計測処理された結果に基づき、前記基板に対して前記原版のパターンを転写する露光手段と、 前記計測手段における計測処理と、前記露光手段における転写処理と、を並列に実行させる制御手段と、 を有することを特徴とする露光装置。
IPC (4件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/68
FI (7件)：
H01L21/30 515G ,  G03F7/20 521 ,  G03F9/00 H ,  H01L21/68 A ,  H01L21/30 525A ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/30 514D
Fターム (27件)：
5F031CA02 ,  5F031DA13 ,  5F031FA03 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031GA10 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031GA49 ,  5F031HA53 ,  5F031JA06 ,  5F031JA17 ,  5F031JA28 ,  5F031JA32 ,  5F031JA38 ,  5F031KA06 ,  5F031MA27 ,  5F046BA04 ,  5F046CB01 ,  5F046CB25 ,  5F046CC01 ,  5F046CD01 ,  5F046CD04 ,  5F046DA07 ,  5F046DA14 ,  5F046FA17 ,  5F046FC10
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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