露光方法及び露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：立石篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-332846
公開番号（公開出願番号）：特開平10-163099
出願日： 1996年11月28日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：

【要約】【課題】スループットを向上させることができるとともに、ベースライン量に無関係に基板ステージの大きさを定めることができる露光方法を提供する。【解決手段】例えば、ステージWS2に保持された基板W上に投影光学系PLを介してマスクRのパターン像の露光が行われる間に、?@ステージWS1に保持された基板W上の位置合わせマークと該ステージWS1上の基準点との位置関係が計測される。そして、ステージWS2に保持された基板Wの露光終了後に、ステージWS1上の基準点を投影光学系PLの投影領域内に位置決めした状態で、?Aその投影領域内の所定の基準点に対するステージWS1上の基準点の位置ずれ及び?Bその位置ずれ検出時のステージWS1の座標位置が検出される。その後に、?@、?A、?Bの検出結果に基づいてステージWS1の移動を制御し、ステージWS1に保持された基板WとマスクRのパターン像との位置合わせが行われる。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して感応基板上に露光する露光方法であって、感応基板を保持して各々同一の平面内を独立に移動可能な2つの基板ステージを用意し、前記2つの基板ステージの内の一方の基板ステージに保持された感応基板上に前記投影光学系を介して前記マスクのパターン像を露光し、前記一方の基板ステージに保持された感応基板の露光中に、前記2つの基板ステージの内の他方の基板ステージに保持された感応基板上の位置合わせマークと前記他方のステージ上の基準点との位置関係を計測し、前記一方の基板ステージに保持された感応基板の露光終了後に、前記他方の基板ステージ上の基準点を前記投影光学系の投影領域内に位置決めした状態で、その投影領域内の所定の基準点に対する前記他方の基板ステージ上の基準点の位置ずれ及び前記他方の基板ステージの座標位置を検出し、前記検出された位置関係、前記検出された位置ずれ及び前記検出された座標位置に基づいて前記他方の基板ステージの移動を制御し、前記他方のステージに保持された感応基板と前記マスクのパターン像との位置合わせを行うことを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (5件)：

H01L 21/30 516 B , G03F 7/20 521 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 515 G , H01L 21/30 525 A

引用特許：

審査官引用 (15件)

ステップ・アンド・リピート装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-112936 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-345453 出願人：株式会社ニコン
特開昭61-263123

全件表示

前のページに戻る