特許

J-GLOBAL ID：200903038277801127

研削・研磨用真空チャック

発明者： 石川 茂治 ,  桐山 勝之
出願人/特許権者： イビデン株式会社
代理人 (2件)： 安富 康男 ,  重平 和信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-093574
公開番号（公開出願番号）：特開2005-279789
出願日： 2004年03月26日
公開日（公表日）： 2005年10月13日
要約：

【課題】被吸着体の均一な研磨を実現することができる研削・研磨用真空チャックを提供する。【解決手段】少なくとも多孔質セラミックスからなる吸着層12と空気の透過を遮断する環状隔壁層16a〜16cとから構成された、被吸着体を吸着、保持するための吸着板18を備え、環状隔壁層は、非酸化物系セラミックス粉末が配合されたガラスにより形成されている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

少なくとも多孔質セラミックスからなる吸着層と空気の透過を遮断する環状隔壁層とから構成された、被吸着体を吸着、保持するための吸着板を備え、 前記環状隔壁層は、非酸化物系セラミックス粉末が配合されたガラスにより形成されていることを特徴とする研削・研磨用真空チャック。

IPC (3件)：

B24B37/04 ,  B23Q3/08 ,  H01L21/304

FI (3件)：

B24B37/04 H ,  B23Q3/08 A ,  H01L21/304 622H

Fターム (7件)：

3C016DA05 ,  3C016DA08 ,  3C016DA11 ,  3C058AA07 ,  3C058AB04 ,  3C058CB01 ,  3C058DA17

引用特許：

出願人引用 (2件)

• バキュームチャックプレート
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-311501   出願人：ソニー株式会社
• 真空チャックの吸着板、真空チャック及び吸着板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-179080   出願人：シーケーディ株式会社

審査官引用 (2件)

• 吸着盤及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-287976   出願人：京セラ株式会社
• 真空吸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-077520   出願人：株式会社日本セラテック, 太平洋セメント株式会社