特許
J-GLOBAL ID:200903038288630774

外観検査方法および外観検査装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 特許業務法人樹之下知的財産事務所 ,  木下 實三 ,  中山 寛二 ,  石崎 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-108599
公開番号(公開出願番号):特開2007-278975
出願日: 2006年04月11日
公開日(公表日): 2007年10月25日
要約:
【課題】装置コストが増大することなく、検査対象の形態に応じた欠陥種別に迅速に分類可能な外観検査方法および外観検査装置の提供。【解決手段】外観検査装置では、ウェハ2外観の撮像画像において所定方向Dに並んだ各画素の輝度を示す輝度プロファイルに基いて、欠け91や異物92などの欠陥種別に分類する。輝度プロファイルは、検査対象であるウェハ2外観を実際に撮像して得られる特性であり、欠陥の形態を明確に示すため、良品パターン等との比較による場合と比べて、欠陥分類の確実性が格段に増す。このため、ウェハ2の外観検査を最終的な欠陥分類に至るまで自動化でき、目視検査(レビュー)が不要となり、検査時間を大幅に短縮できる。また、三次元測定機などの高価な装置を用いずに済むので、装置コストが高騰しない。【選択図】図5
請求項(抜粋):
ウェハの外観を撮像する撮像工程と、 前記撮像工程により得られた撮像画像において所定方向に並んだ各画素の輝度を示す輝度プロファイルを取得する輝度プロファイル取得工程と、 前記輝度プロファイルを基に前記ウェハの欠陥種別を判定して各欠陥種別に分類する欠陥分類工程とを備える ことを特徴とする外観検査方法。
IPC (1件):
G01N 21/956
FI (1件):
G01N21/956 A
Fターム (10件):
2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051AC02 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CD07 ,  2G051DA07 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA16
引用特許:
出願人引用 (2件)

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