特許
J-GLOBAL ID：200903038360941500
石英系ガラス導波路の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-237008
公開番号（公開出願番号）：特開平9-080246
出願日： 1995年09月14日
公開日（公表日）： 1997年03月28日
要約：
【要約】【課題】 光フィルタ,光スイッチ,分散補償回路などを実現するために、これらの構成要素の1つである光合分波器を、希望の特性とすることが容易に可能な石英系ガラス導波路の製造方法を提供する。【解決手段】 SiO2 あるいはSi基板12,20表面に形成された低屈折率のクラッド層13,21の上に、一対のコア用の溝16,24を作成するためのWSiマスクパターン15,23を形成し、このWSiマスクパターン15,23を用いて、上記低屈折率のクラッド層13,21中にコア用の溝16,24を形成し、このコア用溝16,24に、溝同士の幅Sに応じて所望の高屈折率のコア18,26を形成する。
請求項（抜粋）：
SiO2 あるいはSi基板表面に形成された低屈折率のクラッド層の上に、一対のコア用の溝を作成するためのWSiマスクパターンを形成し、このWSiマスクパターンを用いて、上記低屈折率のクラッド層中にコア用の溝を形成し、このコア用溝に、溝同士の幅に応じて所望の高屈折率のコアを形成することを特徴とする石英系ガラス導波路の製造方法。
引用特許：
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