特許
J-GLOBAL ID:200903038409101910
脱水素触媒および水素ガス生成装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
中島 淳 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-068361
公開番号(公開出願番号):特開2003-260360
出願日: 2002年03月13日
公開日(公表日): 2003年09月16日
要約:
【要約】【課題】水素ガスの生成効率を向上させ、かつ、低コストで製造可能な脱水素触媒および水素ガス生成装置を提供する。【解決手段】触媒金属としてNiと6〜9族元素とを用いた脱水素触媒18を備え、更に炭化水素燃料を貯留する貯留タンク10、脱水素触媒18および脱水素触媒を加熱するヒータを備え、貯留タンク10から供給されたデカリンを加熱された脱水素触媒上で脱水素反応させてナフタレンと水素ガスとを生成する反応タンク20を備えている。
請求項(抜粋):
触媒金属としてNiと6〜9族元素とを用いたことを特徴とする脱水素触媒。
IPC (3件):
B01J 23/89
, C01B 3/26
, H01M 8/06
FI (3件):
B01J 23/89 M
, C01B 3/26
, H01M 8/06 G
Fターム (32件):
4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA08A
, 4G069BA08B
, 4G069BB02A
, 4G069BB06A
, 4G069BC57A
, 4G069BC61A
, 4G069BC66A
, 4G069BC67A
, 4G069BC68A
, 4G069BC68B
, 4G069BC70A
, 4G069BC70B
, 4G069BC71A
, 4G069BC73A
, 4G069BC74A
, 4G069CB07
, 4G069CC40
, 4G069DA05
, 4G069FA01
, 4G069FA02
, 4G069FB14
, 4G069FB19
, 4G069FB43
, 4G140DA03
, 4G140DB05
, 4G140DC02
, 4G140DC03
, 5H027AA02
, 5H027BA01
, 5H027BA13
引用特許:
引用文献:
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