特許

J-GLOBAL ID：200903038417718608

パターン形成材料

発明者： 山田 素行 ,  降▲旗▼ 智欣
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-351957
公開番号（公開出願番号）：特開平9-185158
出願日： 1995年12月27日
公開日（公表日）： 1997年07月15日
要約：

【要約】【課題】 電子線、X線、遠紫外線等の放射線を使用して半導体素子、光学素子等の機能素子の表面に超微細加工技術によるパターンを形成する際、安定かつ解像度、再現性に優れたパターンを与え、微細加工が可能なパターン形成材料を得る。【解決手段】 アルカリ可溶性ポリマーの水酸基の全部又は一部をターシャリーブトキシカルボニルオキシ基及び/又はターシャリーブトキシ基で保護したポリマーをベースポリマーとする化学増幅型パターン形成材料に、脱離助剤としてアルコール性水酸基を有する化合物を配合する。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性ポリマーの水酸基の全部又は一部をターシャリーブトキシカルボニルオキシ基及び/又はターシャリーブトキシ基で保護したポリマーをベースポリマーとする化学増幅型パターン形成材料に、脱離助剤としてアルコール性水酸基を有する化合物を配合することを特徴とするパターン形成材料。

IPC (3件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-323191   出願人：信越化学工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-261875   出願人：日本合成ゴム株式会社
• パタン形成材料及びそれを用いたパタン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-280883   出願人：株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
• 特開平3-192361