露光装置のためのアライメント方法及び装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤幸男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-294508
公開番号（公開出願番号）：特開平10-125586
出願日： 1996年10月16日
公開日（公表日）： 1998年05月15日
要約：

【要約】【課題】露光パターンのぼやけによる不良品の発生率を高めることなく、露光作業の効率化を図る。【解決手段】露光光学系14の焦点に対応した適正な位置および姿勢に半導体ウエハ11を制御する。複数のショット領域12、13から選択されたショット領域12について焦点からのずれfを測定し、各測定結果fから半導体ウエハ11の全体的な傾斜を示す近似直線を求める。非測定ショット領域13と測定ショット領域12との距離差Dに応じた重み付けkを考慮して、非測定ショット領域13についての焦点とのずれFを算出する。測定ショット領域12についての測定値fおよび非測定ショット領域13についての算出値Fから近似曲線F(x)を求め、この近似曲線の微分演算処理により、各ショット領域12、13についての傾き補正を算出する。

請求項（抜粋）：

半導体ウエハの複数のショット領域ごとのそれぞれの露光に先立ち、前記半導体ウエハを露光光学系の焦点に対応した適正な位置および姿勢に制御するアライメント方法であって、前記複数のショット領域のうちの選択されたショット領域について少なくとも1つの計測点での前記焦点からのずれを測定すること、各測定結果から各測定点を結ぶ近似直線を求めることにより、前記半導体ウエハの全体的な傾きを求めること、選択されない非測定ショット領域と選択された測定ショット領域との距離差に応じた重み付けを考慮して、前記非測定ショット領域についての前記焦点とのずれを算出すること、測定ショット領域についての前記測定値および前記非測定ショット領域についての前記算出値から近似曲線を求めること、この近似曲線の微分演算処理により、各ショット領域についての傾きを算出すること、前記測定値、前記近似直線および前記近似曲線の微分値に基づいて前記測定ショット領域についての高さ位置および傾斜姿勢を制御し、また、重み付けを考慮して求められた前記算出値、前記近似直線および前記近似曲線の微分値に基づいて前記非測定ショット領域についての高さ位置および傾斜姿勢を制御することを特徴とする露光装置のためのアライメント方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G01B 11/00 , G01B 11/26 , G03F 9/02

FI (4件)：

H01L 21/30 525 W , G01B 11/00 A , G01B 11/26 Z , G03F 9/02 H

引用特許：

審査官引用 (4件)

露光方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-322131 出願人：株式会社ニコン
特開平2-199815
特開平2-199815

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