特許
J-GLOBAL ID:200903038575632680
型取り材
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
津国 肇 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-398024
公開番号(公開出願番号):特開2002-194219
出願日: 2000年12月27日
公開日(公表日): 2002年07月10日
要約:
【要約】【課題】 複製品を製造する際に、複製品を汚損することなく、機械的強度と複製品の離型性に優れ、型取りを繰り返しても硬さの変化や表面の荒れが少なく、型取り回数を多くできる、特に透明樹脂やプロトタイプなど、高度の離型性を要する型取りに適した型取り材を提供する。【構成】 (A)脂肪族不飽和炭化水素基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサン、(B)ポリオルガノハイドロジェンシロキサン、(C)白金化合物および(D)1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシラザンで表面処理された煙霧質シリカを含むことを特徴とする型取り材。
請求項(抜粋):
(A)ケイ素原子に結合した1価の脂肪族不飽和炭化水素基を1分子中に2個以上有する直鎖状ポリオルガノシロキサン 100重量部;(B)ケイ素原子に結合した水素原子を、1分子中に3個以上有するか、(A)のケイ素原子に結合した1価の脂肪族不飽和炭化水素基の数が1分子中に3個以上の場合は、2個以上有するポリオルガノハイドロジェンシロキサン (A)成分中の1価の脂肪族不飽和炭化水素基1個に対して、ケイ素原子に結合した水素原子の数が0.5〜5個となるような量;(C)白金化合物 (A)に対して白金原子換算1〜100重量ppm;および(D)1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシラザンで表面処理された煙霧質シリカ 5〜50重量部を含み、かつケイ素原子に結合した1価の脂肪族不飽和炭化水素基を有する分岐状ポリオルガノシロキサンを含有しないことを特徴とする型取り材。
IPC (3件):
C08L 83/07
, C08K 9/06
, C08L 83/05
FI (3件):
C08L 83/07
, C08K 9/06
, C08L 83/05
Fターム (7件):
4J002CP04X
, 4J002CP14W
, 4J002DD046
, 4J002DJ017
, 4J002EZ006
, 4J002FB147
, 4J002FD156
引用特許:
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