特許
J-GLOBAL ID：200903038589992469
研磨液組成物
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
細田 芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-098749
公開番号（公開出願番号）：特開平11-293231
出願日： 1998年04月10日
公開日（公表日）： 1999年10月26日
要約：
【要約】【課題】被研磨物に欠陥を生じずに表面粗さを低減する研磨液組成物を提供すること。【解決手段】式(I):【化1】〔R1 〜R2 は水素又はメチル基、Xは水素又は炭素数1〜3のアルキル基、AOは炭素数2〜3のアルキレンオキシド基、m1 は0〜2の整数、nは1〜300の整数〕の単量体Aと、式(II):【化2】〔R3 〜R5 は水素、メチル基又は-(CH2)m2COOM2 基(M2は水素、アルカリ金属又はアミノ基、m2は0〜2の整数)、M1は水素、アルカリ金属又はアミノ基、R3 、R4 又はR5 と-COOM1 基とで酸無水物基を形成してもよい〕の単量体及び式(III) :【化3】〔R6 は水素又はメチル基、Yは水素、アルカリ金属又はアミノ基〕から選ばれた単量体Bとを単量体A/単量体Bの重量比0.5 〜50で重合させた共重合体、研磨材及び水を含有する研磨液組成物。
請求項（抜粋）：
式(I):【化1】〔式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基、Xは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基、AOは炭素数2又は3のアルキレンオキシド基、m1 は0〜2の整数、nは1〜300 の整数を示す〕で表される単量体(A)と、式(II):【化2】〔式中、R3 、R4 及びR5 はそれぞれ独立して水素原子、メチル基又は-(CH2 )m2 COOM2 基(M2 は水素原子、アルカリ金属原子又はアミノ基、m2 は0〜2の整数を示す)、M1 は水素原子、アルカリ金属原子又はアミノ基を示す。なお、R3 、R4 又はR5 と-COOM1 基とは結合して酸無水物基を形成してもよい〕で表される単量体及び式(III) :【化3】〔式中、R6 は水素原子又はメチル基、Yは水素原子、アルカリ金属原子又はアミノ基を示す〕で表される単量体からなる群より選ばれた少なくとも1種の単量体(B)とを、単量体(A)と単量体(B)の重量比〔単量体(A)/単量体(B)〕が0.5 〜50となるようにして重合させて得られた共重合体、研磨材、及び水を含有する磁気記録媒体用研磨液組成物。
IPC (2件)：
C09K 3/14 550
, H01L 21/304 622
C09K 3/14 550 K
, H01L 21/304 622 C
