特許
J-GLOBAL ID：200903038613068689
支持器具、リソグラフィ投影装置および支持器具を使用した器具製造方法および支持器具内で使用するよう配置構成された位置制御システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 吉田 裕
, 岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-173318
公開番号（公開出願番号）：特開2005-294790
出願日： 2004年06月11日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：
【課題】リソグラフィ投影装置内で、支持部品に対して振動を防止して被支持部品を支持する支持器具を提供する。【解決手段】支持器具53は、リソグラフィ投影装置の支持部品上で係合する第1部品69と、リソグラフィ投影装置の被支持部品上で係合する第2部品71と、第1部品と第2部品間の支持ばねシステム73と、被支持部品の位置を制御する位置制御システムとを備える。位置制御システムは、支持部品に対して移動可能な基準物体200と、第2部品に対して基準物体を支持する基準支持器具201とを備え、基準質量ばねシステムを形成する。位置制御システムは、基準物体に対して第2部品の位置を感知し、感知した位置信号を出力する位置センサ202を有し、さらに、位置信号に応答して、第1部品に対して第2部品の位置を調節するために位置センサに通信可能な状態で接続されたアクチュエータ203を備える。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
リソグラフィ投影装置内で、支持部品に対して被支持部品を支持する支持器具(53)で、
リソグラフィ投影装置の支持部品上で係合する第1部品(69)と、
リソグラフィ投影装置の被支持部品上で係合する第2部品(71)と、
第1部品と第2部品間の支持ばねシステム(73)と、
被支持部品の位置を制御する位置制御システムとを備え、
位置制御システムが、
支持部品に対して移動可能な少なくとも1つの基準物体(200)と、
基準支持器具(201)とを備え、基準支持器具が第1部品に対して基準物体を支持し、前記基準物体と基準支持器具とが基準質量ばねシステムを形成し、さらに、
基準物体の少なくとも1つに対する第2部品の位置の少なくとも1つの特性を感知する少なくとも1つの位置センサ(202)を備え、位置センサが、前記特性の少なくとも1つを表す位置信号を出力するセンサ出力を有し、位置制御システムがさらに、
位置信号に応答して、第1部品に対する第2部品の位置を調節するため、前記位置センサに連絡可能状態で接続するアクチュエータ(203)を備える支持器具。
IPC (4件)：
H01L21/027
, F16F15/023
, F16F15/03
, F16F15/04
H01L21/30 503F
, F16F15/023 Z
, F16F15/03 Z
, F16F15/04 Z
3J048AA01
, 3J048AB01
, 3J048AC04
, 3J048AC08
, 3J048BC01
, 3J048BE01
, 3J048BE08
, 3J048DA01
, 3J048EA07
, 5F046AA23
, 5F046CC01
, 5F046DA30
, 5F046DB05
