特許
J-GLOBAL ID：200903038668109244

重ね合わせ検査装置および重ね合わせ検査方法

発明者：
阿部 啓之

阿部 啓之 について

, 
高橋 秀夫

高橋 秀夫 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 古谷 史旺
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-340651
公開番号（公開出願番号）：特開2004-179221
出願日： 2002年11月25日
公開日（公表日）： 2004年06月24日
要約：
【課題】下地マークが材料膜で覆われた状態において、下地パターンとレジストパターンとの重ね合わせ状態を高精度に検査する。【解決手段】第1層に形成された第1マークと第2層に形成された第2マークが位置するマーク領域の像を撮像して、マーク領域の画像に関わる信号を出力する手段16〜17と、マーク領域の画像に現れたエッジ部分の位置に基づいて、第2マークの位置、および、第1マークに対応して材料膜の表面に浮き出た疑似マークの位置を検出する手段19と、ショット領域内でのマーク領域の位置に基づいて、疑似マークと第1マークとの位置ずれ量を推定する手段19,20と、第1マークと第2マークとの重ね合わせずれ量を算出する手段20とを備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
第1層上に膜が形成され且つ該膜上に第2層が形成されたショット領域の、前記第1層に形成されたパターンと前記第2層に形成されたパターンとの重ね合わせ状態を検査する重ね合わせ検査装置において、 前記第1層に形成された第1マークと前記第2層に形成された第2マークが位置するマーク領域の像を撮像して、前記マーク領域の画像に関わる信号を出力する撮像手段と、 前記マーク領域の画像に現れたエッジ部分の位置に基づいて、前記第2マークの位置を検出すると共に、前記第1マークに対応して前記膜の表面に浮き出た疑似マークの位置を検出する検出手段と、 前記ショット領域内での前記マーク領域の位置に基づいて、前記疑似マークと前記第1マークとの位置ずれ量を推定する推定手段と、 前記検出手段による検出結果と前記推定手段による推定結果とに基づいて、前記第1マークと前記第2マークとの重ね合わせずれ量を算出する算出手段とを備える ことを特徴とする重ね合わせ検査装置。
IPC (4件)：
H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00
FI (5件)：
H01L21/30 520C ,  G01B11/00 C ,  G03F7/20 521 ,  G03F9/00 H ,  H01L21/30 525W
Fターム (28件)：
2F065AA03 ,  2F065AA12 ,  2F065BB02 ,  2F065BB27 ,  2F065CC01 ,  2F065CC20 ,  2F065CC31 ,  2F065DD04 ,  2F065FF04 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL46 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ38 ,  5F046EA03 ,  5F046EA04 ,  5F046EA12 ,  5F046EA13 ,  5F046EA14 ,  5F046EA17 ,  5F046EA19 ,  5F046EB01 ,  5F046EC05 ,  5F046FA10 ,  5F046FC03 ,  5F046FC04
引用特許：
審査官引用 (2件)

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