特許
J-GLOBAL ID：200903038704013968

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者：
高田 佳幸

高田 佳幸 について

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藤島 浩晃

藤島 浩晃 について

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上谷 保則

上谷 保則 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-224526
公開番号（公開出願番号）：特開2003-114523
出願日： 2002年08月01日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
要約：
【要約】【課題】ArFやKrFなどのエキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、解像度と感度が良好であるとともに、特に改善されたラインエッジラフネスを与えるポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)で示されるベンゼンスルホナートイオンを含む酸発生剤、(式中、Q1〜Q5は、互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜12のパーフルオロアルキル基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、又はハロゲンを表す。)及び酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂を含有し、該樹脂中は、下式(IIa)又は(IIb)で示される脂環式ラクトンの重合単位を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(R1、R2、R3、R4は、互いに独立に水素又はメチルを表し、nは1〜3の数を表す。R2又はR4が複数のとき、互いに同一でも異なってもよい。)
請求項（抜粋）：
式(I)で示されるベンゼンスルホナートイオンを含む酸発生剤、(式中、Q1〜Q5は、互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜12のパーフルオロアルキル基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、又はハロゲンを表す。)及び酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂を含有し、該樹脂は、下式(IIa)又は(IIb)で示される脂環式ラクトンの重合単位を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(式中、R1、R2、R3、R4は、互いに独立に水素又はメチルを表し、nは1〜3の数を表す。R2又はR4が複数のとき、互いに同一でも異なってもよい。)
IPC (4件)：
G03F 7/004 503 ,  C08F220/28 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/004 503 A ,  C08F220/28 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (40件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AK31T ,  4J100AK32T ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AR11T ,  4J100BA03S ,  4J100BA03T ,  4J100BA11P ,  4J100BA11R ,  4J100BA16T ,  4J100BA20T ,  4J100BC04T ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09S ,  4J100BC09T ,  4J100BC53P ,  4J100BC53R ,  4J100BC55T ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (6件)
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