特許
J-GLOBAL ID：200903038707171840

(メタ)アクリル酸シクロヘキシルの製造方法

発明者：
小山 正伸

小山 正伸 について

, 
増田 紀之

増田 紀之 について


出願人/特許権者：
東亞合成株式会社

東亞合成株式会社 について


代理人 (1件)： 高畑 靖世
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-027928
公開番号（公開出願番号）：特開2002-226433
出願日： 2001年02月05日
公開日（公表日）： 2002年08月14日
要約：
【要約】【課題】 (メタ)アクリル酸、シクロヘキサノール、シクロヘキセン等の反応副生物の少ない、高純度(メタ)アクリル酸シクロヘキシルを製造する。【解決手段】 (メタ)アクリル酸とシクロヘキサノールとを触媒の存在下にエステル化して得られる粗エステル、又は(メタ)アクリル酸エステルとシクロヘキサノールとを触媒の存在下にエステル交換して得られる粗エステルを精製して高純度の(メタ)アクリル酸シクロヘキシルを製造するにあたり、一段目の蒸留により粗エステル中の高沸点不純物を除去し、次いで二段目の蒸留により低沸点不純物を除去する。
請求項（抜粋）：
(メタ)アクリル酸とシクロヘキサノールとを触媒の存在下にエステル化して得られる粗エステル、又は(メタ)アクリル酸エステルとシクロヘキサノールとを触媒の存在下にエステル交換して得られる粗エステルを精製して(メタ)アクリル酸シクロヘキシルを製造するにあたり、一段目の蒸留により粗エステル中の高沸点不純物を除去し、次いで二段目の蒸留により低沸点不純物を除去することを特徴とする(メタ)アクリル酸シクロヘキシルの製造方法。
IPC (5件)：
C07C 67/54 ,  C07C 67/03 ,  C07C 67/08 ,  C07C 69/54 ,  C07B 61/00 300
FI (5件)：
C07C 67/54 ,  C07C 67/03 ,  C07C 67/08 ,  C07C 69/54 B ,  C07B 61/00 300
Fターム (20件)：
4H006AA02 ,  4H006AC48 ,  4H006AD11 ,  4H006BA10 ,  4H006BA11 ,  4H006BA66 ,  4H006BA72 ,  4H006BB11 ,  4H006BB15 ,  4H006BC51 ,  4H006BC52 ,  4H006BD20 ,  4H006BD60 ,  4H006BJ10 ,  4H006KA03 ,  4H006KA06 ,  4H039CA66 ,  4H039CD30 ,  4H039CD90 ,  4H039CE10
引用特許：
審査官引用 (5件)
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