特許
J-GLOBAL ID：200903038742309579
浸炭材料の製造方法およびその製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
千葉 剛宏 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-236159
公開番号（公開出願番号）：特開2001-059154
出願日： 1999年08月23日
公開日（公表日）： 2001年03月06日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】煤の発生やワークの酸化を抑制することができ、しかも、浸炭材料を低コストでかつ効率よく製造することが可能な浸炭材料の製造方法および製造装置。【解決手段】ワークWを加熱用コイル50で囲繞し、減圧下で誘導加熱する。ワークWが所定温度に到達した後、該ワークWを保持するシャフト48を回転動作させながら、チャンバ22内の圧力が1Torr未満となるようにガス供給管52a、52bから浸炭性ガスを供給する。また、ワークWを誘導加熱により昇温しているので、ワークWのみが高温になっている。このため、炭素はワークWの表面のみに析出する。次いで、この炭素をワークWの表面から内部へと拡散浸透させた後、ワークWが冷却油噴出管82で囲繞される位置までシャフト48を下降させる。そして、ゲートバルブ42のシャッタ44を閉止して、シャフト48を再び回転動作させながら冷却油を循環供給し、ワークWに焼き入れを施す。
請求項（抜粋）：
ワークを加熱して昇温する昇温工程と、昇温した前記ワークに対して浸炭性ガスを供給し、前記浸炭性ガスを熱分解させて前記ワークの表面に炭素を析出させる析出工程と、析出した炭素を前記ワークの表面から内部へと拡散浸透させる拡散浸透処理工程と、拡散浸透処理が施された前記ワークを焼き入れする焼き入れ工程と、を備え、前記析出工程を1Torr未満で行うことを特徴とする浸炭材料の製造方法。
IPC (4件)：
C23C 8/32
, C21D 1/06
, C21D 1/62
, C21D 1/64
C23C 8/32
, C21D 1/06 A
, C21D 1/62
, C21D 1/64
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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