特許
J-GLOBAL ID：200903038770692930

光断層画像化装置

発明者：
戸井田 昌宏

戸井田 昌宏 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-118015
公開番号（公開出願番号）：特開2002-014037
出願日： 2001年04月17日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
要約：
【要約】【課題】 低コヒーレンス干渉を用いて生体観測部の断層情報を取得する光断層画像化装置において、被測定部へ照射する信号光の光強度を被測定部の安全性を確保できる光強度に保ちつつ、S/Nが向上した断層情報を取得する。【解決手段】 ファイバカプラ201 において、光源部100 から出射された低コヒーレンス光を、被測定部10に照射する信号光と、ピエゾ素子205で周波数シフトされる参照光とに分割し、また、参照光と、信号光が被測定部10の所定の深部で反射され、光ファイバ増幅器500 で増幅された反射光とを合波する。この合波された干渉光の光強度をバランス差分検出部600 で検出し、信号処理部700 で画像処理を行い、画像処理部710に断層画像として表示する。反射光は、Ti4+が添加され、波長532nmのレーザ光により励起されているファイバ増幅部501を透過する際に効率良く増幅され、取得する断層画像情報のS/Nが向上する。
請求項（抜粋）：
低コヒーレンス光を信号光と参照光に分割し、前記参照光の周波数と前記信号光の周波数に差が生じるように、前記参照光または信号光の少なくとも一つの周波数をシフトさせ、前記信号光を被測定部に照射し、前記信号光の前記被測定部の所定の深部からの反射光と、前記参照光とを干渉させ、干渉光強度を測定して前記被測定部の光断層画像を取得する光断層画像化装置において、前記反射光を光増幅する光増幅手段を備えたことを特徴とする光断層画像化装置。
IPC (3件)：
G01N 21/17 630 ,  A61B 10/00 ,  G01N 21/35
FI (3件)：
G01N 21/17 630 ,  A61B 10/00 E ,  G01N 21/35 Z
Fターム (18件)：
2G059BB12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059FF08 ,  2G059GG01 ,  2G059HH01 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ12 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK01 ,  2G059KK03 ,  2G059LL02 ,  2G059MM01 ,  2G059MM17 ,  2G059PP04
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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引用文献：
出願人引用 (1件)

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