特許
J-GLOBAL ID：200903038771130197
加熱装置およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-300736
公開番号（公開出願番号）：特開平11-260534
出願日： 1998年10月22日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：
【要約】【課題】セラミックス製の基体と、この基体の中に埋設されている発熱体とを備えており、基体に被加熱物を処理するべき加熱面が設けられている加熱装置において、加熱装置の各部分における動作状態を安定化する。【解決手段】基体2内において、所定のセラミックスの体積抵抗率よりも高い体積抵抗率を有する他のセラミックスからなる例えば層状の抵抗制御部2cが設けられている。好ましくは、抵抗制御層2cと加熱面5との間に他の導電性機能部品3が埋設されており、導電性機能部品3が静電チャック電極または高周波発生用電極であり、所定のセラミックスが窒化アルミニウム質セラミックスであり、前記他のセラミックスの主成分がアルミナ、窒化珪素、窒化ホウ素、酸化珪素または酸化イットリウムである。
請求項（抜粋）：
基体と、この基体の中に埋設されている発熱体とを備えており、前記基体に被加熱物を処理するべき加熱面が設けられている加熱装置であって、前記基体が、所定のセラミックスと、前記所定のセラミックスの体積抵抗率よりも高い体積抵抗率を有する他のセラミックスからなる抵抗制御部とからなることを特徴とする、加熱装置。
IPC (4件)：
H05B 3/20 356
, C04B 35/495
, H01L 21/205
, H01L 21/68
H05B 3/20 356
, H01L 21/205
, H01L 21/68 R
, C04B 35/00 J
