ロール・ツー・ロール処理方法および装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長尾達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-023093
公開番号（公開出願番号）：特開平9-195055
出願日： 1996年01月16日
公開日（公表日）： 1997年07月29日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】メインテナンスの必要な真空チャンバーのみを清掃可能とし、メインテナンス時における所要時間を大幅に短縮し、装置の稼働率を著しく向上させるようにしたロール・ツー・ロール処理方法および装置を提供する。【解決手段】帯状基体を送り出し室から巻き取り室に向かって移動させて処理室430,450,470を備えた真空チャンバーを通過させ、処理するロール・ツー・ロール処理方法または装置において、処理室を真空チャンバーに対して脱着可能に構成すると共に、帯状基体を通過させた状態で複数の真空チャンバー間に圧力差を設けることのできるゲートバルブを設け、メインテナンス時にゲートバルブを閉じ、メインテナンスの必要な真空チャンバーのみを大気圧として、脱着可能な処理室を予備の物と交換し、あるいは送り出し機構または巻き取り機構のボビンを新たなものにセットする。

請求項（抜粋）：

複数の連結された各々の真空チャンバー内に送り出し機構、処理室及び巻き取り機構を備え、帯状基体を前記送り出し室から前記巻き取り室に向かって移動させて前記処理室を備えた真空チャンバーを通過させ、該処理室で前記帯状基体を処理するロール・ツー・ロール処理方法において、前記処理室を真空チャンバーに対して脱着可能に構成すると共に、前記帯状基体を通過させた状態で前記複数の真空チャンバー間に圧力差を設けることのできるゲートバルブを設け、メインテナンス時に前記ゲートバルブを閉じ、メインテナンスの必要な真空チャンバーのみを大気圧として、前記脱着可能な処理室を予備の物と交換し、あるいは送り出し機構または巻き取り機構のボビンを新たなものにセットするようにしたことを特徴とするロール・ツー・ロール処理方法。

IPC (3件)：

C23C 16/54 , H01L 21/205 , H01L 31/04

FI (3件)：

C23C 16/54 , H01L 21/205 , H01L 31/04 T

引用特許：

審査官引用 (3件)

ゲート及び真空処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-048834 出願人：キヤノン株式会社
薄膜光電変換素子の製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-081505 出願人：株式会社富士電機総合研究所
特開昭59-084586

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