特許
J-GLOBAL ID:200903038867834357

光触媒式ガス処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 今岡 良夫 ,  今岡 憲
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-113099
公開番号(公開出願番号):特開2005-296726
出願日: 2004年04月07日
公開日(公表日): 2005年10月27日
要約:
【課題】 高濃度のガスを迅速、確実、かつ廉価な構造で分解処理することが出来る光触媒式ガス処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】 光源を内蔵する流路の一部の内面に光触媒を担持してガス処理部とした光触媒式ガス処理装置において、上記ガス処理部20は、光触媒担持面44を、光触媒を突起状とした粗面とし、該粗面に接近させて、流路方向に該方向と垂直に長い複数の光源36...を配列して、その光源周りを通って蛇行する気流の一部が、光触媒担持面に衝突するように構成した。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
光源を内蔵する流路の一部の内面に光触媒を担持してガス処理部とした光触媒式ガス処理装置において、上記ガス処理部20は、光触媒担持面44を、光触媒を突起状とした粗面とし、該粗面に接近させて、流路方向に該方向と垂直に長い複数の光源36...を配列して、その光源周りを通って蛇行する気流の一部が、光触媒担持面44に衝突するように構成したことを特徴とする、光触媒式ガス処理装置。
IPC (4件):
B01J35/02 ,  A61L9/00 ,  A61L9/18 ,  B01D53/86
FI (6件):
B01J35/02 A ,  B01J35/02 J ,  A61L9/00 C ,  A61L9/18 ,  B01D53/36 J ,  B01D53/36 G
Fターム (25件):
4C080AA09 ,  4C080AA10 ,  4C080BB02 ,  4C080CC02 ,  4C080HH05 ,  4C080JJ04 ,  4C080KK08 ,  4C080MM02 ,  4C080NN22 ,  4C080QQ17 ,  4D048AA19 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07Y ,  4D048BA41Y ,  4D048BB12 ,  4D048CA07 ,  4D048CC38 ,  4D048EA01 ,  4G069BA04A ,  4G069BA48A ,  4G069CA01 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069DA06 ,  4G069EC22X
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (7件)
  • 空気清浄装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-058345   出願人:アイワ株式会社
  • ガス処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-113602   出願人:株式会社竹中工務店, 株式会社神戸製鋼所
  • 空気清浄化ユニット
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-382400   出願人:アンデス電気株式会社
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