特許
J-GLOBAL ID：200903038869606939
複合酸化物系誘電体薄膜形成用の溶液原料と誘電体薄膜
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
広瀬 章一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-237619
公開番号（公開出願番号）：特開平11-323556
出願日： 1998年08月24日
公開日（公表日）： 1999年11月26日
要約：
【要約】【課題】 2種以上の有機金属化合物からMOCVD法により複合酸化物 (例、チタン酸バリウムストロンチウム) 系誘電体薄膜を成膜する際の膜の組成制御性と段差被覆性を改善する。【解決手段】 原料有機金属化合物を、アルカン (例、n-ヘキサン) 、シクロアルカン (例、シクロヘキサン) ジアルコキシアルカン (例、 1,2-ジエトキシエタン) 、アルキル置換環式モノエーテル (例、2-メチルテトラヒドロフラン) 、モノもしくはジ分岐アルキルモノエーテル (例、ジイソブチルエーテル)、アルコキシアルコール (例、1-エトキシ-2-プロパノール) 、ジオール (例、プロピレングリコール) よりなる群から選ばれた1種もしくは2種以上の溶媒か、またはアルカンもしくはシクロアルカンと上記の他の有機溶媒またはピリジン系溶媒との混合溶媒に溶解させた溶液をMOCVD法に使用する。
請求項（抜粋）：
1種または2種以上の有機金属化合物原料を、環式もしくは非環式ジエーテル、アルキル置換環式モノエーテル、モノもしくはジ分岐アルキルモノエーテル、アルコキシアルコール、ジオール、ならびにアセト酢酸エステルから選ばれた1種または2種以上の溶媒に溶解させた溶液からなる、MOCVD法による複合酸化物系誘電体薄膜形成用の溶液原料。
IPC (3件)：
C23C 16/40
, C23C 16/18
, H01B 3/00
C23C 16/40
, C23C 16/18
, H01B 3/00 F
