プラズマ処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：亀谷美明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-085744
公開番号（公開出願番号）：特開平10-261698
出願日： 1997年03月19日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：

【要約】【課題】均一平面の静電チャック上に被処理体を載置可能なプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】静電チャック118は中央部材120と各外側部材122とから構成されると共に,中央部材120と各外側部材122とは熱応力を吸収するように相互に所定の間隔を以てサセプタ110の載置面に設けられる。中央部材120と外側部材122との間,および各外側部材122間には,間隔領域124及び126が形成される。間隔領域124及び126に対応するサセプタ110の載置面には,伝熱ガス吹出孔138が配置される。各通路126の処理室102側端部には気密部材140が,また各通路126の通路124側端部には隔壁142が配置される。中央部材120及び外側部材122に内装された薄膜に高電圧を印加するとチャック面上のウェハWが保持されると共に,伝熱ガス吹出孔138から伝熱ガスがウェハWとチャック面との間に供給される。

請求項（抜粋）：

気密な処理室内に,導電性薄膜を絶縁性材料で挟持して成る静電チャックと,前記静電チャックが固着される載置台とを備え,前記導電性薄膜に高電圧を印加することにより前記静電チャックのチャック面に載置された被処理体を吸着保持して,その被処理面に所定のプラズマ処理を施す如く構成されたプラズマ処理装置において:前記静電チャックは,温度変化に伴って生じる応力を吸収するように,相互に所定の間隔を以て配される2以上の部材から成ることを特徴とする,プラズマ処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/68 , B23Q 3/15 , C23C 16/50 , C23F 4/00 , H01L 21/3065 , H02N 13/00 , H05H 1/46

FI (7件)：

H01L 21/68 R , B23Q 3/15 D , C23C 16/50 , C23F 4/00 A , H02N 13/00 D , H05H 1/46 A , H01L 21/302 B

引用特許：

出願人引用 (6件)

特表平7-506465
特表平2-503376
静電チャック装置およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-266486 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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審査官引用 (6件)

特表平7-506465
特表平2-503376
静電チャック装置およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-266486 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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