特許
J-GLOBAL ID:200903038945164258

ハニカム構造体の触媒の担持方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡邉 一平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-345016
公開番号(公開出願番号):特開2007-144359
出願日: 2005年11月30日
公開日(公表日): 2007年06月14日
要約:
【課題】触媒として良好な組成・細孔分布が実現された触媒を、ハニカム構造体の細孔内に均一に担持することが可能なハニカム構造体の触媒担持方法を提供する。【解決手段】二つの端面間を連通する複数のセル3が形成されるように配置された、多数の細孔を有する多孔質の隔壁4と、セル3をいずれかの端面において目封止するように配置された目封止部10とを備えたハニカム構造体1に触媒を担持するハニカム構造体の触媒の担持方法であって、触媒の貴金属を除く構成成分の中で触媒の構成成分全体に占める体積の割合が50体積%以上となる一の成分を、前駆体状態又はゾル状態にて、ハニカム構造体の細孔内に含浸させ、含浸させた一の成分をゲル化させ、ゲル化させた一の成分を乾燥する工程を含むハニカム構造体の触媒の担持方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
二つの端面間を連通する複数のセルが形成されるように配置された、多数の細孔を有する多孔質の隔壁と、前記セルをいずれかの前記端面において目封止するように配置された目封止部とを備えたハニカム構造体に触媒を担持するハニカム構造体の触媒の担持方法であって、 前記触媒の貴金属を除く構成成分の中で前記触媒の構成成分全体に占める体積の割合が50体積%以上となる一の成分を、前駆体状態又はゾル状態にて、前記ハニカム構造体の前記細孔内に含浸させ、含浸させた前記一の成分をゲル化させ、ゲル化させた前記一の成分を乾燥する工程を含むハニカム構造体の触媒の担持方法。
IPC (9件):
B01J 37/03 ,  B01J 35/04 ,  B01J 37/32 ,  B01J 37/02 ,  B01J 23/42 ,  B01D 53/94 ,  B01D 53/86 ,  F01N 3/28 ,  F01N 3/02
FI (14件):
B01J37/03 A ,  B01J35/04 301E ,  B01J37/32 ,  B01J37/02 101D ,  B01J23/42 A ,  B01D53/36 103B ,  B01D53/36 103C ,  B01D53/36 103Z ,  B01D53/36 101A ,  B01D53/36 101Z ,  B01D53/36 Z ,  F01N3/28 301P ,  F01N3/02 301C ,  F01N3/02 301E
Fターム (64件):
3G090AA02 ,  3G090EA02 ,  3G091AB01 ,  3G091BA25 ,  3G091BA39 ,  3G091GA06 ,  3G091GA16 ,  4D048AA06 ,  4D048AA13 ,  4D048AA14 ,  4D048AA18 ,  4D048AA21 ,  4D048AB01 ,  4D048AB02 ,  4D048AB05 ,  4D048AB07 ,  4D048BA03X ,  4D048BA07X ,  4D048BA10Y ,  4D048BA30X ,  4D048BA31Y ,  4D048BA32Y ,  4D048BA33Y ,  4D048BA34Y ,  4D048BA39Y ,  4D048BA41X ,  4D048BB02 ,  4D048BB14 ,  4D048BB17 ,  4D048CC34 ,  4D048CC41 ,  4D048DA03 ,  4D048DA11 ,  4D048EA04 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA01B ,  4G169BA04B ,  4G169BA13A ,  4G169BA17 ,  4G169BC32A ,  4G169BC33A ,  4G169BC69A ,  4G169BC75B ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA07 ,  4G169CA08 ,  4G169CA09 ,  4G169CA13 ,  4G169CA14 ,  4G169CA15 ,  4G169CA18 ,  4G169DA06 ,  4G169EA18 ,  4G169EA19 ,  4G169EA27 ,  4G169EB11 ,  4G169FA03 ,  4G169FB08 ,  4G169FB14 ,  4G169FB19 ,  4G169FB57 ,  4G169FC08
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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