セラミック静電チャックアセンブリ及びその作製方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：大塚康徳 , 高柳司郎 , 大塚康弘 , 木村秀二 , 松丸秀和
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-509527
公開番号（公開出願番号）：特表2004-531907
出願日： 2002年06月10日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：

セラミック本体に埋め込まれたパターンのある静電クランプ電極を有する焼結セラミック静電チャック装置(ESC)が提供される。静電クランプ電極は、細かいパターンで配置された、導電性材料で作られる少なくとも1つのストリップを含む。細かい電極パターンが用いられることによって、ESCの作製中に誘起されるストレスは、静電クランプ電極が焼結工程後に実質的に平面のままであるように、減少される。結果として得られるESCによって、改善された均一なクランプが実現される。他のESCは、絶縁性の又は半導体の本体と、高抵抗又は高い横方向インピーダンスを有するクランプ電極と、を含む。静電チャック装置は、RFエネルギが下にあるRF電極からクランプ電極を通して結合されるときに、改善されたRF結合の均一性を提供する。RF電極は、離れたベースプレート又はチャックの一部であってもよい。ESCは、プラズマ処理装置内で半導体ウエハ等の半導体基板を支持するために用いることができる。

請求項（抜粋）：

焼結セラミック静電チャック装置であって、継ぎ目のないモノリシックな焼結セラミック本体に埋め込まれる実質的に平面の静電クランプ電極であって、前記クランプ電極は、導電性材料で作られる少なくとも1つのパターンを含む静電クランプ電極を備え、前記電極パターンの最大直線長は1.0インチであることを特徴とするチャック装置。

IPC (3件)：

H01L21/68 , H01L21/3065 , H02N13/00

FI (3件)：

H01L21/68 R , H02N13/00 D , H01L21/302 101G

Fターム (7件)：

5F004BB22 , 5F004BB29 , 5F031CA02 , 5F031HA02 , 5F031HA16 , 5F031HA18 , 5F031MA32

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平1-274938
静電チャック
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-250948 出願人：信越化学工業株式会社
特開平1-274938

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