特許

J-GLOBAL ID：200903039020432623

化学的機械的研磨組成物およびその使用方法

発明者： シュレーダー,デイビッド ジェイ. ,  モーゲンボーグ,ケビン ジェイ.
出願人/特許権者： キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
代理人 (4件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-526345
公開番号（公開出願番号）：特表2007-520050
出願日： 2004年09月10日
公開日（公表日）： 2007年07月19日
要約：

本発明は、(a)シリカ粒子、(b)研磨組成物の全重量に対し、約5×10-3から約10ミリモル/kgの、カルシウム、ストロンチウム、バリウムおよびそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも1種のアルカリ土類金属、(c)約0.1から約15wt%の酸化剤、および(d)水を含んでなる液体キャリア、を含んでなる化学的機械的研磨組成物を提供する。本発明はまた、酸化剤を随意に含み、約5×10-3から約10ミリモル/kgの、カルシウム、ストロンチウムおよびそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも1種のアルカリ土類金属を含む研磨組成物を提供する。本発明はさらに、上述の研磨組成物を用いて基板を研磨する方法を提供する。

請求項（抜粋）：

(a)シリカ粒子、 (b)研磨組成物の全重量に対し、約5×10-3から約10ミリモル/kgの、カルシウム、ストロンチウム、バリウムおよびそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも1種のアルカリ土類金属、 (c)約0.1から約15wt%の酸化剤、および (d)水を含んでなる液体キャリア、 を含み、約7から約13のpHを有する、化学的機械的研磨組成物。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00

FI (5件)：

H01L21/304 622D ,  C09K3/14 550D ,  C09K3/14 550Z ,  B24B37/00 H ,  H01L21/304 621D

Fターム (2件)：

3C058DA02 ,  3C058DA17

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 化学的機械的研磨用スラリー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-374486   出願人：日本電気株式会社, 東京磁気印刷株式会社
• バリア膜用研磨剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-295784   出願人：株式会社トクヤマ
• 活性剤溶液を含有し、化学機械的に磨くためのスラリーシステム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-578398   出願人：アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド
• 研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-244333   出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド