特許
J-GLOBAL ID：200903039096690150
フォトマスクとフォトマスクの製造方法及びマスクデータ生成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-168127
公開番号（公開出願番号）：特開2005-003996
出願日： 2003年06月12日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：
【課題】OPC処理に伴う微小図形の発生を抑制すると共に、図形数並びにデータ量を低減することができ、描画スループット及び検査スループットの向上に寄与する。【解決手段】マスク露光用パターンをマスク基板上に露光することによりマスクパターンが形成されたフォトマスクであって、マスク露光用パターンは、設計データのパターンイメージである設計パターン410に近接効果補正パターン420を付加してなり、設計パターン410の斜線部に付加する近接効果補正パターン420のエッジ部401〜406の形状は、設計パターン410の斜線部に対して45度の斜線形状である。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
マスク露光用パターンをマスク基板上に露光することによりマスクパターンが形成されたフォトマスクであって、
前記マスク露光用パターンは、設計データのパターンイメージである設計パターンに近接効果補正パターンを付加してなり、
前記設計パターンの斜線部に付加する前記近接効果補正パターンのエッジ部の形状は、前記設計パターンの斜線部に対して45度の斜線形状であることを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F1/08 A
, G03F1/08 C
, H01L21/30 502P
2H095BA01
, 2H095BB01
, 2H095BB02
, 2H095BB10
, 2H095BB36
