特許

J-GLOBAL ID：200903085843004564

配線パターンの自動レイアウト方法、レイアウトパターンの光学補正方法、自動レイアウト方法と光学補正方法に基づいて製造される半導体集積回路、および自動レイアウト光学補正プログラムを記録した記録媒体

発明者： 五十嵐 睦典 ,  橋本 耕治 ,  高島 誠 ,  池内 敦彦 ,  山田 正昭
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 三好 秀和 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-133168
公開番号（公開出願番号）：特開2002-329783
出願日： 2001年04月27日
公開日（公表日）： 2002年11月15日
要約：

【要約】【課題】 露光後も充分なVIA断面積を確保することのできる低データ量の自動レイアウト方法および光学補正方法を提供する。【解決手段】 第1方向に延びる線幅がWの第1配線パターンを生成し、第1配線パターンと所定の角度を成して斜めに延びる第2配線パターンを、その終端部が第1配線パターンの終端部と重なり合うように生成する。第1配線パターンの長手方向の中心線と第2配線パターンの長手方向の中心線との交点に、第1配線パターンに沿って延びるアスペクト比が約2の長方形のVIAパターンを、その中心点が交点に一致するように生成する。さらに、長方形のVIAパターンをその中心点を基準に拡張した拡張領域を生成し、この拡張領域を斜めの第2配線パターンにマージしてマージパターンを生成する。このマージパターンを、所定の方向に延びる複数の領域に分割する。

請求項（抜粋）：

第1の方向に延びる線幅Wの第1配線を生成するステップと、前記第1配線と直交する方向に延びる線幅Wの第2配線を、その終端部が前記第1配線の終端部で終了するように生成するステップと、前記第1配線または第2配線のいずれか一方の終端部をL字型に折れ曲げて延長し、第1配線と第2配線とが重なり合う重複領域を生成するステップと、前記重複領域に、所定のアスペクト比の長方形のVIAパターンを生成するステップとを含むことを特徴とする配線パターンの自動レイアウト方法。

IPC (6件)：

H01L 21/82 ,  G03F 1/08 ,  G06F 17/50 658 ,  G06F 17/50 ,  H01L 21/822 ,  H01L 27/04

FI (7件)：

G03F 1/08 A ,  G06F 17/50 658 G ,  G06F 17/50 658 J ,  G06F 17/50 658 M ,  H01L 21/82 W ,  H01L 21/82 C ,  H01L 27/04 D

Fターム (14件)：

2H095BA01 ,  2H095BB02 ,  2H095BB34 ,  2H095BB36 ,  5B046AA08 ,  5B046BA06 ,  5F038CA17 ,  5F038CD05 ,  5F038EZ15 ,  5F038EZ20 ,  5F064EE02 ,  5F064EE22 ,  5F064EE27 ,  5F064HH06

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭61-140149
  
• 半導体装置およびその配線方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-331416   出願人：松下電子工業株式会社
• 半導体装置およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-195771   出願人：九州日本電気株式会社
• 特開昭61-140149