特許

J-GLOBAL ID：200903039157197397

クリーニングシ-ト、及びこれを用いた基板処理装置のクリーニング方法

発明者： 寺田 好夫 ,  並河 亮
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-349972
公開番号（公開出願番号）：特開2002-113435
出願日： 2000年11月16日
公開日（公表日）： 2002年04月16日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、例えば、半導体、フラットパネルディスプレイ、プリント基板などの製造装置や検査装置など、異物を嫌う基板処理装置のクリーニングシート及びクリーニング方法を提供する。【解決手段】 クリーニング層が、ゲル分率が90%以上、又は/及び低分子量体が実質的に含まれておらず、かつ揮発性ガス量が100°C下で500ppm以下であるクリーニングシート、支持体の少なくとも片面にこのクリーニング層が設けられてなるクリーニングシート、支持体の片面にこのクリーニング層が設けられ、他面に通常の粘着剤層が設けられてなるクリーニングシートである。

請求項（抜粋）：

クリーニング層が、ゲル分率が90%以上で、かつ揮発性ガス量が100°C下で500ppm以下であるクリーニングシート。

IPC (3件)：

B08B 7/00 ,  H01L 21/304 641 ,  C09J 7/00

FI (3件)：

B08B 7/00 ,  H01L 21/304 641 ,  C09J 7/00

Fターム (17件)：

3B116AA03 ,  3B116BA08 ,  3B116BA11 ,  3B116BC07 ,  3B116CC05 ,  4J004AA05 ,  4J004AA10 ,  4J004AA11 ,  4J004AA13 ,  4J004AA14 ,  4J004AB01 ,  4J004AB06 ,  4J004BA02 ,  4J004CC02 ,  4J004EA05 ,  4J004FA05 ,  4J004FA10

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 半導体ウエハに付着した異物の除去用粘着テ-プと除去方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-248818   出願人：日東電工株式会社
• ヘッドクリーナーおよび磁気記録再生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-115540   出願人：松下電器産業株式会社
• 画像形成方法及び画像形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-214691   出願人：コニカ株式会社
• 特開平3-171188