複数の化学物質をプロセス・ツールに供給するシステム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：青山葆 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-557100
公開番号（公開出願番号）：特表2003-518591
出願日： 1999年06月30日
公開日（公表日）： 2003年06月10日
要約：

【要約】本発明は、複数の異なる化学物質をプロセス・ツールに給送するシステムであって、プロセス・ラインに繋がる第1供給マニホールドに接続される第1供給キャニスタ、プロセス・ラインに繋がる第2供給マニホールドに接続される第2供給キャニスタを含むシステムに関する。

請求項（抜粋）：

複数の異なる化学物質をプロセス・ツールに給送するためのシステムであって: 少なくとも1つの第1プロセス・ラインに繋がる第1マニホールドに接続される第1補充キャニスタおよび第1プロセス・キャニスタであって、第1補充キャニスタが第1化学物質を第1マニホールドを通して第1プロセス・キャニスタに補充し、第1プロセス・キャニスタが第1化学物質をプロセス・ツールに供給する、第1補充キャニスタおよび第1プロセス・キャニスタ; 少なくとも1つの第2プロセス・ラインに繋がる第2マニホールドに接続される第2補充キャニスタおよび第2プロセス・キャニスタであって、第2補充キャニスタが第2化学物質を第2マニホールドを通して第2プロセス・キャニスタに補充し、第2プロセス・キャニスタが第2化学物質をプロセス・ツールに供給する、第2補充キャニスタおよび第2プロセス・キャニスタ; を含み、第1補充キャニスタ、第1プロセス・キャニスタ、第2補充キャニスタ、第2プロセス・キャニスタならびに第1および第2マニホールドがキャビネットに収容されている、システム。

IPC (2件)：

F17C 13/04 301 , F17C 7/00

FI (2件)：

F17C 13/04 301 Z , F17C 7/00 Z

Fターム (3件)：

3E072AA03 , 3E072CA05 , 3E072DA05

引用特許：

審査官引用 (5件)

高純度薬品のための薬品補充システム
公報種別：公表公報出願番号：特願平7-519632 出願人：アドバンスト・ディリバリー・アンド・ケミカル・システムズ・インコーポレイテッド
特開昭61-118127
半導体製造装置のガス供給装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-283998 出願人：エルジーセミコンカンパニーリミテッド

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