特許
J-GLOBAL ID:200903039257546429

プロトン伝導性材料、プロトン伝導性膜およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴木 俊一郎 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-329215
公開番号(公開出願番号):特開2003-132732
出願日: 2001年10月26日
公開日(公表日): 2003年05月09日
要約:
【要約】【課題】プロトン伝導性に優れ、高温条件下でもプロトン伝導性の低下が少ないプロトン伝導材料、プロトン伝導性膜およびその製造方法を提供すること。【解決手段】プロトン伝導材料は、ホスホシリケートゲルとポリイミドとからなる。上記ホスホシリケートゲルは、例えば酸性縮合触媒を含む水とテトラアルコキシシランとの接触物に、リン酸を添加し混合してゾルとし、得られたゾルをゲル化させた後熱処理することにより得られる。プロトン伝導性膜は、ホスホシリケートゲルとポリイミドとからなる。プロトン伝導性膜の製造方法は、ポリイミドまたはポリアミック酸と、ホスホシリケートゲルとを含む懸濁分散液を基板に塗布した後、加熱する。
請求項(抜粋):
ホスホシリケートゲルとポリイミドとからなることを特徴とするプロトン伝導材料。
IPC (9件):
H01B 1/06 ,  C01B 33/00 ,  C08J 5/18 CFG ,  C08L 79/08 ,  C09D179/08 ,  C09D183/02 ,  H01B 13/00 ,  H01M 8/02 ,  H01M 8/10
FI (9件):
H01B 1/06 A ,  C01B 33/00 ,  C08J 5/18 CFG ,  C08L 79/08 Z ,  C09D179/08 Z ,  C09D183/02 ,  H01B 13/00 Z ,  H01M 8/02 P ,  H01M 8/10
Fターム (41件):
4F071AA60 ,  4F071AA66 ,  4F071AH12 ,  4F071AH15 ,  4F071BA06 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4F071BC02 ,  4G072AA50 ,  4G072BB09 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ42 ,  4G072MM01 ,  4G072MM36 ,  4G072PP01 ,  4G072PP03 ,  4G072PP17 ,  4G072RR05 ,  4G072UU03 ,  4G072UU30 ,  4J002CM04W ,  4J002CP02X ,  4J002GQ02 ,  4J038DJ021 ,  4J038DJ022 ,  4J038DL021 ,  4J038DL022 ,  4J038HA416 ,  4J038MA10 ,  4J038NA17 ,  5G301CA30 ,  5G301CD01 ,  5G301CE01 ,  5H026AA06 ,  5H026BB01 ,  5H026BB04 ,  5H026CX05 ,  5H026EE11 ,  5H026EE15 ,  5H026EE18
引用特許:
審査官引用 (3件)

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