露光装置及び露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤元亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-036817
公開番号（公開出願番号）：特開2004-266273
出願日： 2004年02月13日
公開日（公表日）： 2004年09月24日
要約：

【課題】 EUV光を露光光源としながらも、高精度なアライメントを行うことができる露光装置及び露光方法を提供する。【解決手段】 EUV光を用いてレチクルに形成されたパターンを投影光学系を介して被処理体上に投影露光する露光装置であって、前記露光装置は、前記EUV光とは異なる波長の第2の光でマークを照明し、該マークからの前記第2の光を前記投影光学系を介して受光することにより該マークの位置に関する情報を検出する検出手段を有することを特徴とする露光装置を提供する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

EUV光を用いてレチクルに形成されたパターンを投影光学系を介して被処理体上に投影露光する露光装置であって、前記露光装置は、前記EUV光とは異なる波長の第2の光でマークを照明し、該マークからの前記第2の光を前記投影光学系を介して受光することにより該マークの位置に関する情報を検出する検出手段を有することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L21/027 , G03F7/20 , G03F9/00

FI (8件)：

H01L21/30 531J , G03F7/20 503 , G03F9/00 H , H01L21/30 525A , H01L21/30 525R , H01L21/30 517 , H01L21/30 503G , H01L21/30 525K

Fターム (31件)：

2H097AA02 , 2H097CA15 , 2H097KA03 , 2H097KA12 , 2H097KA13 , 2H097KA20 , 2H097LA10 , 2H097LA12 , 5F046AA22 , 5F046BA05 , 5F046CB02 , 5F046CB03 , 5F046CB25 , 5F046EB02 , 5F046EB03 , 5F046ED03 , 5F046FA03 , 5F046FA05 , 5F046FA07 , 5F046FA10 , 5F046FA16 , 5F046FB02 , 5F046FB10 , 5F046FB12 , 5F046FB13 , 5F046GA03 , 5F046GA07 , 5F046GA18 , 5F046GB01 , 5F046GC03 , 5F046GD10

引用特許：

審査官引用 (7件)

X線投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-035108 出願人：株式会社ニコン
位置検出方法及び位置検出装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-151876 出願人：キヤノン株式会社
EUVリソグラフィ装置の除染をする方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-375879 出願人：カール-ツァイス-シュティフトゥング・トレーディング・アズ・カール・ツァイス

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