X線投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-035108
公開番号（公開出願番号）：特開平11-233416
出願日： 1998年02月17日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：

【要約】【課題】ウエハと反射鏡の間隔を大きくすることは、結像光学系の光学性能を低下させるため、極めて困難であった。【解決手段】少なくとも、X線源と、該X線源から発生するX線を所定のパターンを有するマスク上に照射するX線照明光学系と、該マスクからのX線を受けて前記パターンの像を基板上に投影結像するX線投影結像光学系と、前記マスクを保持するマスクステージと、前記基板を保持する基板ステージと、マスク及び基板上のマークを光学的に検出する位置検出光学系を有するX線投影露光装置であって、前記投影結像光学系はX線を反射する複数の反射鏡で構成し、該複数の反射鏡の間に、前記位置検出光学系の少なくとも一部を配置することを特徴とするX線投影露光装置。

請求項（抜粋）：

少なくとも、X線源と、該X線源から発生するX線を所定のパターンを有するマスク上に照射するX線照明光学系と、該マスクからのX線を受けて前記パターンの像を基板上に投影結像するX線投影結像光学系と、前記マスクを保持するマスクステージと、前記基板を保持する基板ステージと、マスク及び基板上のマークを光学的に検出する位置検出光学系を有するX線投影露光装置であって、前記投影結像光学系はX線を反射する複数の反射鏡で構成し、該複数の反射鏡の間に、前記位置検出光学系の少なくとも一部を配置することを特徴とするX線投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 531 A , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 531 J

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開昭63-312641
特開昭61-114529
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-156231 出願人：株式会社ニコン

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