特許
J-GLOBAL ID：200903039289105351
コンビナトリアルX線回折装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
清水 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-149213
公開番号（公開出願番号）：特開2000-338061
出願日： 1999年05月28日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 X線源からのX線を効率的に利用し、かつ多数の異なる位置に配置される試料を列状に同時に測定できるコンビナトリアルX線回折装置を提供する。【解決手段】 X線源1と、X線源から放射されたX線を分光して反射する湾曲モノクロメータ2と、湾曲モノクロメータにより反射されたX線を測定領域に画するために配置されるスリット3と、スリットを通過したX線の所望範囲のみを画するナイフエッジスリット6と、ナイフエッジスリットにより規制されたX線を照射するためのコンビナトリアルエピタキシャル薄膜4の保持部と、エピタキシャル薄膜の保持部に保持された回折X線を受ける2次元検出器7と、エピタキシャル薄膜の保持部を搭載するω軸と回折X線を受ける検出器を搭載する2θ軸を有するゴニオメータと、X線がエピタキシャル薄膜を照射する位置を移動可能な駆動装置と、情報処理装置での処理結果を表示する表示機器とを具備する。
請求項（抜粋）：
(a)点状焦点からX線を放射するX線源と、(b)該X線源から放射されたX線を分光して反射する湾曲モノクロメータと、(c)該湾曲モノクロメータにより反射されたX線を測定領域に画するために配置されるスリットと、(d)該スリットを通過したX線の所望範囲のみを画するナイフエッジスリットと、(e)該ナイフエッジスリットにより規制されたX線を照射するためのコンビナトリアルエピタキシャル薄膜の保持部と、(f)前記エピタキシャル薄膜の保持部に保持された前記エピタキシャル薄膜から反射した回折X線を受ける2次元検出器と、(g)前記エピタキシャル薄膜の保持部を搭載するω軸と前記回折X線を受ける検出器を搭載する2θ軸を有するゴニオメータと、(h)X線が前記エピタキシャル薄膜を照射する位置を移動可能な駆動装置と、(i)前記2次元検出器からの出力データを取り込み、データ処理を行う情報処理装置と、(j)該情報処理装置での処理結果を表示する表示機器とを具備することを特徴とするコンビナトリアルX線回折装置。
IPC (3件)：
G01N 23/207
, G01N 23/20
, H01L 21/66
G01N 23/207
, G01N 23/20
, H01L 21/66 L
2G001AA01
, 2G001BA18
, 2G001CA01
, 2G001EA02
, 2G001EA09
, 2G001FA02
, 2G001FA06
, 2G001FA08
, 2G001FA09
, 2G001FA18
, 2G001GA13
, 2G001HA13
, 2G001JA07
, 2G001KA11
, 2G001KA12
, 2G001MA05
, 2G001PA11
, 2G001PA15
, 2G001SA01
, 4M106AA10
, 4M106AA20
, 4M106BA20
, 4M106CB21
, 4M106DH01
, 4M106DH25
, 4M106DH34
, 4M106DJ04
, 4M106DJ05
, 4M106DJ06
, 4M106DJ20
, 4M106DJ23
