特許
J-GLOBAL ID：200903039310387800
磁性膜の形成方法、磁性パターンの形成方法及び磁気記録媒体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉村 俊一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-030311
公開番号（公開出願番号）：特開2005-223178
出願日： 2004年02月06日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：
【課題】 保磁力が異なる部分を有する磁性膜を形成することができる磁性膜の形成方法等を提供する。【解決手段】 Fe及びCoの少なくとも一方を主成分と、Pd及びPtの少なくとも一方とを主成分とする薄膜4に、ホウ素イオン6を局所的に注入した後に熱処理し、ホウ素イオン6が注入された部位7は高い保磁力を有する部位9となり、ホウ素イオン6が局所的に注入されていない部位8は低い保磁力を有する部位10となる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
Fe及びCoの少なくとも一方と、Pd及びPtの少なくとも一方とを主成分とする薄膜にホウ素イオンを局所的に注入した後に熱処理することを特徴とする磁性膜の形成方法。
IPC (5件)：
H01F41/14
, G11B5/66
, G11B5/851
, H01F10/14
, H01F10/16
H01F41/14
, G11B5/66
, G11B5/851
, H01F10/14
, H01F10/16
5D006BB06
, 5D006BB07
, 5D112AA05
, 5D112BB02
, 5D112BB05
, 5D112FA04
, 5D112GA23
, 5E049AA01
, 5E049AA04
, 5E049AA09
, 5E049AC05
, 5E049BA06
, 5E049EB06
, 5E049FC01
出願人引用 (2件)
審査官引用 (5件)
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