セラミックスでコーティングされた複合材料の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡田英彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-264528
公開番号（公開出願番号）：特開平10-114586
出願日： 1996年10月04日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：

【要約】【課題】厳密な加熱条件を設定および制御することなく、多孔質性基材の空隙および/または細孔の内部がセラミックスでコーティングまたは充填されている複合材料を製造する方法を提供すること。【解決手段】上記課題を解決するための本発明の製造方法は、化学反応によってセラミックスを生成するための2種類またはそれ以上の反応物を1種類の原料ガスのみによっては当該セラミックスが生成され得ないように分別して含んでいる2種類またはそれ以上の複数種類の原料ガスを使用し、多孔質性基材を配置した反応容器内に当該原料ガスを混合させることなく1種類ずつ交互に供給し、ここで当該反応容器内に1種類の原料ガスを供給した後であって次に当該原料ガスと異なる種類の原料ガスを当該反応容器内に供給する前には、当該反応容器内を一旦真空排気すること、を特徴とする。

請求項（抜粋）：

空隙および/または細孔を有する基材の該空隙および細孔の内部がセラミックスでコーティングまたは充填されている複合材料を製造する方法であって、(a) 該基材を加熱状態として反応容器内に配置すること、(b) 化学反応によってセラミックスを生成するための2種類またはそれ以上の反応物を、1種類の原料ガスのみによっては該セラミックスが生成され得ないように分別して含んでいる2種類またはそれ以上の複数種類の原料ガスを使用すること、(c) 前記反応容器内に、前記複数種類の原料ガスを混合することなく1種類ずつ交互に供給すること、および、(d) 前記複数種類の原料ガスを1種類ずつ交互に供給する際には、前記反応容器内に1種類の原料ガスを供給した後であって次に該原料ガスと異なる種類の原料ガスを該反応容器内に供給する前において、該反応容器内を一旦真空排気すること、を特徴とする製造方法。

IPC (5件)：

C04B 41/85 , B01J 12/02 , C04B 38/00 304 , C04B 41/87 , C23C 16/42

FI (6件)：

C04B 41/85 C , B01J 12/02 A , C04B 38/00 304 Z , C04B 41/87 G , C04B 41/87 V , C23C 16/42

引用特許：

審査官引用 (7件)

炭化ケイ素膜の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-264755 出願人：ホーヤ株式会社
特開平3-223180
炭化ケイ素の成膜方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-178665 出願人：ホーヤ株式会社

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