特許
J-GLOBAL ID:200903039367816316

酸化セラミックから成る薄膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 神戸 正雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-192370
公開番号(公開出願番号):特開平11-071675
出願日: 1998年06月22日
公開日(公表日): 1999年03月16日
要約:
【要約】【課題】 低い蒸着温度での酸化セラミックからなる薄膜の製造方法の提供【解決手段】 本発明は、表面への金属酸化物の蒸着によって、酸化セラミックから成る方法に関する。その際に、有機金属前駆体の酸化開始のために促進剤が添加される。
請求項(抜粋):
表面への金属酸化物の蒸着によって、酸体セラミックからなる薄膜を製造する方法において、ガス状前駆体を形成するための有機金属前駆体を蒸発させる工程と、該前駆体の酸化を開始するための促進剤を添加する工程と、金属酸化物を形成するための前駆体を酸化する工程と、表面へ金属酸化物を蒸着する工程とからなることを特徴とする方法。
引用特許:
審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る