特許
J-GLOBAL ID：200903039386176360

電子ビーム描画装置および電子ビームのブランキング方法

発明者：
磯部 盛之

磯部 盛之 について


出願人/特許権者：
日本電子株式会社

日本電子株式会社 について


代理人 (1件)： 井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-104912
公開番号（公開出願番号）：特開2000-299267
出願日： 1999年04月13日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：
【要約】【課題】 ビーム遮断偏向時の全偏向振幅よりはるかに小さい距離で遮断絞りエッジにビームを到達させ、ビーム遮断までの時間を大幅に短縮して描画パターンのエッジ解像度を向上させることができる電子ビーム描画装置を実現する。【解決手段】 描画材料6上のビームを遮断、投入するブランキング偏向器22,23は2段偏向系を構成し、同一方向にビームを偏向する。2段偏向器の中間を2段偏向系の仮想偏向主面にとり、この位置にビーム遮断絞り24を配置している。この絞り24に設けられた開口部の位置は、調整機構25により調整することができる。この調整機構により、絞りの開口部の位置を調整し、ビームを遮断しないビーム軸位置の近傍に絞りに設けられた電子ビーム通過開口部を位置させ、この状態で電子ビームのブランキングを行う。
請求項（抜粋）：
電子ビームを集束して被描画材料に照射すると共に、電子ビームを描画パターンに応じて偏向し、被描画材料上に所望のパターンの描画を行うようにした電子ビーム描画装置において、ブランキング偏向器と、ブランキング偏向器によって偏向された電子ビームを遮断する絞りを設け、絞りの開口部の位置を調整する調整機構とを備えたことを特徴とする電子ビーム描画装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/09 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/305
FI (5件)：
H01L 21/30 541 B ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/09 A ,  H01J 37/147 C ,  H01J 37/305 B
Fターム (16件)：
2H097AA03 ,  2H097CA16 ,  2H097EA01 ,  2H097LA10 ,  5C033BB03 ,  5C033BB06 ,  5C033GG02 ,  5C034BB03 ,  5C034BB04 ,  5C034BB05 ,  5C034BB07 ,  5F056CB05 ,  5F056CB28 ,  5F056EA03 ,  5F056EA04 ,  5F056EA06
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM