特許
J-GLOBAL ID：200903039442067030
芳香族ポリカルボシランの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-070406
公開番号（公開出願番号）：特開2001-261836
出願日： 2000年03月14日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
要約：
【要約】【課題】 ジビニルシラン部分構造(C=C-Si-C=C)および芳香環構造を主鎖に有し、二つの有機基側鎖をケイ素上に有する芳香族ポリカルボシランの効率的製造方法を提供する。【解決手段】 パラジウム触媒存在下、ジヒドロシラン類(R1R2SiH2)を芳香族ジイン化合物(HC≡CR3C≡CH、R3は2価の芳香環基)と反応させることにより、ジビニルシラン部分構造(C=C-Si-C=C)および芳香環構造を主鎖に有する芳香族ポリカルボシラン類((-SiR1R2-R4-R3-R5-)n、式中、R4およびR5は、-CH=CH-(ビニレン基)および>C=CH2(ビニリデン基)の中から選ばれる互いに同一または相異なる2価の基で、nは2以上の整数)を製造する。
請求項（抜粋）：
パラジウム触媒存在下、一般式R1R2SiH2 (I)(式中、R1およびR2は、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、および1価の複素環基の中から選ばれる互いに同一または相異なる1価の基を示す。)で表されるジヒドロシラン類を、一般式HC≡CR3C≡CH (II)(式中、R3は、アリーレン基および2価の芳香族複素環基の中から選ばれる2価の芳香環基を示す。)で表されるジイン化合物と反応させることを特徴とする、一般式(-SiR1R2-R4-R3-R5-)n (III)(式中、R1、R2、およびR3は、前記式(I)および(II)中のものと同じである。R4およびR5は、-CH=CH-(ビニレン基)および>C=CH2(ビニリデン基)の中から選ばれる互いに同一あるいは相異なる2価の基である。また、nは2以上の整数を示す。)で表される芳香族ポリカルボシランの製造方法。
Fターム (3件)：
4J035JA02
, 4J035JB01
, 4J035LB20
