特許
J-GLOBAL ID:200903039535604095

有機ELパネルの製造方法および有機ELパネル

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小野寺 洋二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-313714
公開番号(公開出願番号):特開2004-235138
出願日: 2003年09月05日
公開日(公表日): 2004年08月19日
要約:
【課題】 簡単な構成で信頼性が高く、機械的強度を有し、高性能な有機EL素子形成用のメタルマスクを用いた有機EL表示パネルの製造方法と、この製造方法で製造した高精細かつ高品質の有機EL表示パネルを提供する。【解決手段】 有機ELパネルの画素を構成する有機発光層、有機発光層、電子注入層および電子輸送層の少なくとも一つを、多層メタルマスクのマスク孔を介する蒸着材料の蒸着により形成する。多層メタルマスク100は、有機ELを構成する透明基板側の第1のメタル層26の材質と蒸着材料の供給源側の第2のメタル層21の材質とで異なり、第2のメタル層21は磁性材の厚板で構成され、第1のメタル層26の第1マスク孔24Aは第2のメタル層21の第2マスク孔55の面積と等しいか、あるいは小さい。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
アクティブ素子で駆動される第1の電極層が画素毎に複数形成され、該画素毎に前記第1の電極層を露呈する矩形開口を有して当該第1の電極層上に形成される絶縁層を具備する透明基板と、 前記矩形開口における前記第1の電極上に前記複数の画素毎に順次積層形成された正孔輸送層および正孔注入層、該正孔注入層の上層に画素毎に形成された有機発光層、該有機発光層の上層に順次積層形成された電子注入層および電子輸送層と、 前記複数の画素の前記電子輸送層を共通に覆って形成される第2の電極層とを有する有機ELパネルの製造方法であって、 前記有機発光層、有機発光層、電子注入層および電子輸送層の少なくとも一つを、前記透明基板の前記絶縁層と密着して配置する多層メタルマスクのマスク孔を介する蒸着材料の蒸着により形成する工程を有し、 前記多層メタルマスクは、前記透明基板側のメタル層の材質と前記蒸着材料の供給源側のメタル層の材質とで異なり、 前記透明基板側のメタル層以外の少なくとも一つのメタル層は磁性材の厚板で構成され、 前記透明基板側のメタル層のマスク孔は、前記蒸着材料の供給源側のメタル層のマスク孔の面積と等しいか、あるいは小さいことを特徴とする有機ELパネルの製造方法。
IPC (3件):
H05B33/10 ,  C23C14/04 ,  H05B33/14
FI (3件):
H05B33/10 ,  C23C14/04 A ,  H05B33/14 A
Fターム (12件):
3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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