反射体の形成方法、反射体及び真空成膜装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：角田嘉宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-076472
公開番号（公開出願番号）：特開2001-262316
出願日： 2000年03月17日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
要約：

【要約】【課題】反射体を煩雑な工程を要することなく形成することができ、また形成された反射体の品質を向上させることもできる、反射体の形成方法、該方法によって形成された反射体、及び該反射体を形成することができる真空成膜装置を提供することである。【解決手段】基板と、基板上に形成された光を反射させる反射層と、反射層上に形成された所定の色を呈する着色層とを有する反射体を、真空成膜によって形成する。即ち、基板を真空チャンバ1内の基板ホルダ5に保持し、真空成膜により基板上に反射層を形成するとともに、真空チャンバ内で連続して着色層の形成も行う。そして、着色層が所定の色を呈するように真空成膜における成膜条件を制御する。

請求項（抜粋）：

光を反射させる反射層を基板に形成する工程と、該反射層上に所定の色を呈する着色層を形成する工程とを含んでなる反射体の形成方法であって、前記反射層を形成する工程を真空チャンバ内に前記基板を配置して成膜する真空成膜によって行うとともに、前記着色層を形成する工程を、所定の色を呈する前記着色層を形成するように成膜条件が制御される前記真空成膜によってすることを特徴とする反射体の形成方法。

IPC (8件)：

C23C 14/06 , B32B 7/02 103 , B32B 31/00 , C23C 14/08 , C23C 14/58 , F21V 7/22 , G02B 5/08 , C23C 16/40

FI (9件)：

C23C 14/06 N , B32B 7/02 103 , B32B 31/00 , C23C 14/08 E , C23C 14/58 B , F21V 7/22 F , F21V 7/22 D , G02B 5/08 C , C23C 16/40

Fターム (59件)：

2H042DA02 , 2H042DA11 , 2H042DA12 , 2H042DA17 , 2H042DA18 , 2H042DB00 , 2H042DC02 , 2H042DC03 , 2H042DD09 , 2H042DE01 , 4F100AA06D , 4F100AA20D , 4F100AA21C , 4F100AR00B , 4F100AR00C , 4F100AT00A , 4F100BA03 , 4F100BA04 , 4F100BA10A , 4F100BA10C , 4F100BA10D , 4F100EH661 , 4F100EH662 , 4F100EJ59B , 4F100EJ59C , 4F100EJ611 , 4F100EJ612 , 4F100EK00 , 4F100GB32 , 4F100HB00C , 4F100JL02 , 4F100JL10C , 4F100JM02B , 4F100JM02C , 4F100JM02D , 4F100JN01A , 4F100JN06B , 4K029AA09 , 4K029AA11 , 4K029BA46 , 4K029BA48 , 4K029BB02 , 4K029CA01 , 4K029GA03 , 4K030AA04 , 4K030AA11 , 4K030BA02 , 4K030BA42 , 4K030BA44 , 4K030BA46 , 4K030BB12 , 4K030CA06 , 4K030CA07 , 4K030FA01 , 4K030KA02 , 4K030KA28 , 4K030KA30 , 4K030KA32 , 4K030LA11

引用特許：

審査官引用 (11件)

特開平4-295801
特開平3-287757
多層コーティング反射鏡の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-255086 出願人：松下電工株式会社

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