特許
J-GLOBAL ID：200903039813497564
ウエハ保持用ステージ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大井 正彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-020349
公開番号（公開出願番号）：特開平10-218364
出願日： 1997年02月03日
公開日（公表日）： 1998年08月18日
要約：
【要約】【課題】 ウエハとの接触面積が小さく、ウエハの反りを確実に矯正した状態で、当該ウエハを吸着保持することのできるウエハ保持用ステージを提供する。【解決手段】 ウエハを処理するために当該ウエハを吸着保持するためのウエハ保持用ステージであって、円板状の基台11と、この基台11の周縁に沿って当該基台11から上方に突出するよう形成された、載置されたウエハ1の周辺部を吸着することによって当該ウエハ1を保持するウエハ保持部12とを有してなり、ウエハ1の周辺部が前記ウエハ保持部12に吸着された状態において、当該ウエハ保持部12によって囲まれた、当該ウエハ1と前記基台11との間の空間Sを外気と連通させる開放用通路15が形成されていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
ウエハを処理するために当該ウエハを吸着保持するためのウエハ保持用ステージであって、円板状の基台と、この基台の周縁に沿って当該基台から上方に突出するよう形成された、載置されたウエハの周辺部を吸着することによって当該ウエハを保持するウエハ保持部とを有してなり、ウエハの周辺部が前記ウエハ保持部に吸着された状態において、当該ウエハ保持部によって囲まれた、当該ウエハと前記基台との間の空間を外気と連通させる開放用通路が形成されていることを特徴とするウエハ保持用ステージ。
IPC (4件)：
B65G 49/07
, B23Q 3/08
, H01L 21/027
, H01L 21/68
B65G 49/07 G
, B23Q 3/08 A
, H01L 21/68 P
, H01L 21/30 503 C
, H01L 21/30 577
