特許
J-GLOBAL ID：200903039835910457

プラズマ処理装置およびそれを用いたプラズマ処理方法

発明者：
岡崎 真也

岡崎 真也 について

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江畑 裕介

江畑 裕介 について

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古川 和彦

古川 和彦 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-203143
公開番号（公開出願番号）：特開2007-027187
出願日： 2005年07月12日
公開日（公表日）： 2007年02月01日
要約：
【課題】処理速度の高速化に有効なフィラメント状放電を利用しつつ処理特性の均一化を図ることができ、さらには装置コストの増大や装置構成の複雑化を招くこともないプラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】プラズマ処理装置は、絶縁体を挟んで互いに隣接する一対の第1電極および第2電極とからなる電極ユニットと、電極ユニットと対向しかつ外部と通ずる常圧の空間にガスを供給するガス供給手段と、前記空間からガスを排出するガス排出手段と、前記空間に被処理物を導入し搬送し搬出する搬送手段とを備え、電極ユニットは電力が投入された際に第1および第2電極間に略等ピッチで並ぶフィラメント状放電を発生させてプラズマを生成でき、電極ユニット、ガス供給手段およびガス排出手段は、ガス供給手段からガス排出手段へ流れるガス流によってフィラメント状放電の発生位置が連続的に移動するようにそれぞれ配置される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
絶縁体を挟んで互いに隣接する一対の第1電極および第2電極とからなる電極ユニットと、電極ユニットと対向しかつ外部と通ずる常圧の空間にガスを供給するガス供給手段と、前記空間からガスを排出するガス排出手段と、前記空間に被処理物を導入し搬送し搬出する搬送手段とを備え、電極ユニットは電力が投入された際に第1および第2電極間に略等ピッチで並ぶフィラメント状放電を発生させてプラズマを生成でき、電極ユニット、ガス供給手段およびガス排出手段は、ガス供給手段からガス排出手段へ流れるガス流によってフィラメント状放電の発生位置が連続的に移動するようにそれぞれ配置されることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/306 ,  H01L 21/31 ,  C23C 16/505 ,  H05H 1/24
FI (4件)：
H01L21/302 101E ,  H01L21/31 C ,  C23C16/505 ,  H05H1/24
Fターム (26件)：
4K030EA06 ,  4K030FA01 ,  4K030KA14 ,  4K030KA30 ,  4K030LA15 ,  4K030LA18 ,  5F004AA01 ,  5F004AA16 ,  5F004BA06 ,  5F004BC03 ,  5F004BD04 ,  5F004CA03 ,  5F004CA05 ,  5F004DA01 ,  5F004DA22 ,  5F004DA26 ,  5F004DB01 ,  5F045AB32 ,  5F045AC11 ,  5F045AC16 ,  5F045AE29 ,  5F045EH04 ,  5F045EH14 ,  5F045EH18 ,  5F045EH19 ,  5F045EM10
引用特許：
出願人引用 (4件)
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