特許
J-GLOBAL ID：200903039862614541

非線形光学薄膜の製造方法

発明者：
木練 透

木練 透 について

, 
小室 栄樹

小室 栄樹 について


出願人/特許権者：
ティーディーケイ株式会社

ティーディーケイ株式会社 について


代理人 (1件)： 皿田 秀夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-046277
公開番号（公開出願番号）：特開平11-231362
出願日： 1998年02月12日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：
【要約】【課題】 大量生産が可能であることはもとより、マトリックスに含有される微粒子の形状および微粒子の分散性を任意に制御することができる非線形光学薄膜の製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の非線形光学薄膜の製造方法は、(1)微粒子の分散の均一化が図れるように、予め設定された微粒子の配列パターンに対応する凹凸パターンを有する成形型を準備する成形型準備工程と、(2)基板の上に直接または間接に樹脂層を形成し、当該樹脂層に上記成形型を押しつけて、当該樹脂層に凹凸パターンを形成する樹脂層凹凸パターン形成工程と、(3)この凹凸パターンを利用して、微粒子を上記所定の配列パターンに堆積させる微粒子形成工程と、(4)所定の配列パターンに堆積された微粒子を埋めるようにマトリックス層を形成するマトリックス層形成工程と、を有し、前記形成されたマトリックス層を基板とし、上記(2)〜(4)の工程を繰り返して微粒子を含有するマトリックス層を順次、積層して構成する。
請求項（抜粋）：
マトリックス層の中に、微粒子を含有させてなる非線形光学薄膜の製造方法であって、該方法は、(1)微粒子の分散の均一化が図れるように、予め設定された微粒子の配列パターンに対応する凹凸パターンを有する成形型を準備する成形型準備工程と、(2)基板の上に直接または間接に樹脂層を形成し、当該樹脂層に上記成形型を押しつけて、当該樹脂層に凹凸パターンを形成する樹脂層凹凸パターン形成工程と、(3)この凹凸パターンを利用して、微粒子を上記所定の配列パターンに堆積させる微粒子形成工程と、(4)所定の配列パターンに堆積された微粒子を埋めるようにマトリックス層を形成するマトリックス層形成工程と、を有し、前記形成されたマトリックス層を基板とし、上記(2)〜(4)の工程を繰り返して微粒子を含有するマトリックス層を順次、積層してなることを特徴とする非線形光学薄膜の製造方法。
引用特許：
審査官引用 (4件)
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