特許
J-GLOBAL ID：200903039939776019
磁気記録媒体の製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-173765
公開番号（公開出願番号）：特開2005-353191
出願日： 2004年06月11日
公開日（公表日）： 2005年12月22日
要約：
【課題】 可とう性高分子支持体の少なくとも一方の面にスパッタ法により磁性層を形成するにあたり、低コスト性を維持しながら、可とう性高分子支持体の熱変形を防止し、表面平滑性を保つことができる磁気記録媒体の製造方法を提供すること。【解決手段】 可とう性高分子支持体は、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリアミド(PA)およびポリイミド(PI)から選ばれる1種であり、磁性層の形成工程は、前記可とう性高分子支持体が最大表面粗さRz0.01μm以上0.4μm以下の表面性を有する成膜ロールに沿った状態で搬送されながら行われるものであり、かつ、磁性層を形成する成膜レートが0.5nm/秒以上17nm/秒以下であることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
可とう性高分子支持体の少なくとも一方の面に、スパッタ法により磁性層を形成する工程を有する磁気記録媒体の製造方法において、前記可とう性高分子支持体は、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリアミド(PA)およびポリイミド(PI)から選ばれる1種であり、前記磁性層の形成工程は、前記可とう性高分子支持体が最大表面粗さRz0.01μm以上0.4μm以下の表面性を有する成膜ロールに沿った状態で搬送されながら行われるものであり、かつ、前記磁性層を形成する成膜レートが0.5nm/秒以上17nm/秒以下であることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (11件)：
5D006CB01
, 5D006CB02
, 5D006CB03
, 5D112AA02
, 5D112AA05
, 5D112BA01
, 5D112BB05
, 5D112FA04
, 5D112FB25
, 5D112FB30
, 5D112KK05
出願人引用 (6件)
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磁気記録媒体の製造方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-151363
出願人：富士写真フイルム株式会社
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磁気記録媒体
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-167977
出願人：富士写真フイルム株式会社
-
磁気記録媒体
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-288947
出願人：富士写真フイルム株式会社
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