露光プロセスモニタ方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-207252
公開番号（公開出願番号）：特開2005-064023
出願日： 2003年08月12日
公開日（公表日）： 2005年03月10日
要約：

【課題】露光プロセスモニタにおいて、露光条件の変動(露光量と焦点位置のずれ)を正しく監視・制御する手段を提供すること。【解決手段】露光量、焦点位置の変動による断面形状の変化が大きい孤立性の高いパターン(孤立ラインパターンなど)を観測対象とし、特に、順テーパから逆テーパへと変化するレジスト断面形状の変化を捉えるため、(1)傾斜撮像電子顕微鏡を用いてレジストパターンのチルト像を撮像、(2)電子線信号波形上に非対称性を生じさせる撮像条件にてレジストパターンの電子線像を撮像、(3)光学式測定システムによりレジストパターンの散乱特性データを取得、のいずれかの観測方法により観測データを取得し、これらを予め露光条件を振って作成したモデルデータにあてはめることによって、露光量、焦点位置の変動を推定する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

露光量と焦点位置を変えた種々の露光条件下におけるレジストパターンの観測データを取得する第1のステップと、該第1のステップで取得した観測データを用いて前記露光条件と観測データとを関連づけるモデルデータを作成する第2のステップと、被モニタ対象の露光プロセスを経て形成されたレジストパターンの観測データを取得する第3のステップと、該レジストパターンの観測データを前記モデルデータに照合することによって被モニタ対象の露光プロセスの適正条件からのずれ量を推定する第4のステップとを有する露光プロセスの変動をモニタする方法であって、前記露光条件の変動によって寸法が変化すると共に断面形状が順テーパから逆テーパへと変化するレジストパターンを観測対象とし、前記第1のステップおよび前記第3のステップにおける観測手段として傾斜撮像が可能な電子顕微鏡を用い、該電子顕微鏡を用いて傾斜撮像して得たレジストパターンの電子線像または/および、レジストパターンの電子線像のエッジ幅または/およびパターン幅を含む寸法特徴量を前記第2のステップ及び前記第4のステップにおける観測データとして用いることを特徴とする露光プロセスモニタ方法。

IPC (2件)：

H01L21/66 , H01L21/027

FI (2件)：

H01L21/66 J , H01L21/30 502V

Fターム (8件)：

4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106CA39 , 4M106DB02 , 4M106DB04 , 4M106DB18 , 4M106DB21 , 4M106DJ38

引用特許：

審査官引用 (9件)

露光条件決定方法とその装置ならびに半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-290302 出願人：株式会社日立製作所
特開平3-266444
特開平3-266444

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