特許
J-GLOBAL ID:200903040025940536

水処理制御システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 吉武 賢次 ,  橘谷 英俊 ,  佐藤 泰和 ,  吉元 弘 ,  川崎 康
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-037915
公開番号(公開出願番号):特開2004-243265
出願日: 2003年02月17日
公開日(公表日): 2004年09月02日
要約:
【課題】オゾン注入率と紫外線照射量との組み合わせを最適にすると共に、被処理水の水質変化に対して迅速に対応することができ、更に精度の高い水質測定を可能とする水処理制御システムを提供すること。【解決手段】被処理水が水処理槽1に導入される際の濁度及び蛍光強度は、それぞれ濁度計4及び蛍光分析計5により検出される。水処理制御装置6は、濁度計4からの検出信号を入力し紫外線照射量を決定し、次いで、オゾン注入率をこの紫外線照射量に対応する値に決定する。水処理制御装置6は、このように決定した紫外線照射量及びオゾン注入率を目標値として電源装置7を制御して紫外線照射器2から紫外線を照射させると共に、オゾン発生装置8を制御してオゾン注入器3からオゾンを注入させる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被処理水に対してオゾン注入及び紫外線照射に基づく水処理を行う水処理制御システムにおいて、 紫外線照射器及びオゾン注入器が配設されており、前記被処理水を導入する水処理槽と、 前記水処理槽に導入される被処理水の濁度を検出する濁度計と、 前記水処理槽に導入される被処理水の蛍光強度を検出する蛍光分析計と、 前記濁度計及び前記蛍光分析計の各検出に基づき、前記紫外線照射器の紫外線照射量及び前記オゾン注入器のオゾン注入率を制御する水処理制御装置と、 を備えたことを特徴とする水処理制御システム。
IPC (2件):
C02F1/78 ,  C02F1/32
FI (2件):
C02F1/78 ,  C02F1/32
Fターム (19件):
4D037AA05 ,  4D037AA11 ,  4D037AB01 ,  4D037AB02 ,  4D037AB03 ,  4D037BA18 ,  4D037BB01 ,  4D037BB02 ,  4D037CA12 ,  4D050AA02 ,  4D050AA12 ,  4D050AB06 ,  4D050AB07 ,  4D050AB12 ,  4D050BB02 ,  4D050BC09 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (2件)
  • 促進酸化処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-117102   出願人:株式会社東芝
  • 特開平4-225895

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