特許
J-GLOBAL ID：200903040026923031
露光装置用のデ-タ作成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
細江 利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-015170
公開番号（公開出願番号）：特開平11-329957
出願日： 1999年01月25日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：
【要約】【課題】 LSI設計データとレチクルデータから、分割投影転写方式で必要なデータを作成する荷電粒子線露光装置用のデータ作成方法を提供する。【解決手段】 データ作成装置1で作成されたレチクルパターンデータは、レチクルパターンデータファイル2に格納され、露光装置用の描画情報データは、描画データファイル3に格納される。各々のファイルに格納されたデータの内、レチクルパターンデータは、レチクル描画装置用ホストコンピュータ4に送られ、レチクル描画装置用ホストコンピュータ4はこのデータに従ってレチクル描画装置5を駆動し、レチクルにパターンを作成する。描画情報データは、荷電粒子線露光装置用ホストコンピュータ6に送られ、荷電粒子線露光装置用ホストコンピュータ6は、このデータに基づいて荷電粒子線露光装置7を駆動してレチクルからマスクへの転写を行う。
請求項（抜粋）：
LSI設計データとレチクルデータから、分割投影転写方式の露光装置用のレチクル作成のためのレチクルパターンデータを作成するステップと、前記露光装置用の描画情報データを作成するステップとを有してなる露光装置用のデータ作成方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 1/08
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 541 Z
, G03F 1/08 A
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 502 G
, H01L 21/30 541 S
