特許
J-GLOBAL ID：200903089774299277
荷電ビーム露光用マスクセットおよび荷電ビーム露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-175004
公開番号（公開出願番号）：特開平10-020481
出願日： 1996年07月04日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：
【要約】【課題】 より小さなウエハを使用してパターンを転写することができるとともに、スループットを向上させることができる荷電ビーム露光用マスクセットおよび荷電ビーム露光方法の提供。【解決手段】 マスクパターンを複数の分割パターンに分割してそれぞれ異なる試料に形成してマスクセットを構成するマスク11,12を作製する。露光に際しては、マスク11,12を荷電ビーム露光装置のステージ4に載置し、ステージ4を連続移動させながらマスク11,12の複数の領域2a〜2hに形成されたパターンを試料上に順次露光転写する。マスク11,12を連続移動方向に沿ってステージ4上に配置してもよい。
請求項（抜粋）：
マスクパターンを複数に分割し、これら分割パターンを各々異なる基板に形成してなる複数の分割マスクから構成されることを特徴とする荷電ビーム露光用マスクセット。
IPC (3件)：
G03F 1/16
, G03F 7/20 504
, H01L 21/027
G03F 1/16 B
, G03F 7/20 504
, H01L 21/30 541 R
