特許

J-GLOBAL ID：200903053625203947

荷電粒子線によるパターン転写方法および転写装置

発明者： 沖野 輝昭
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-189463
公開番号（公開出願番号）：特開平9-115828
出願日： 1996年07月18日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：

【要約】【課題】 マスクから感応基板への転写を効率良く行う。【解決手段】 マスク10および感応基板20を連続移動させ、それに伴ってマスクの特定範囲11内の複数の小領域110に荷電粒子線EBを時系列的に照射しつつ各小領域110のパターンを感応基板の特定範囲21内の複数の被転写領域210に選択的に投影する。一つの被転写領域210に転写すべきパターンをマスク10の特定範囲11に包含される二以上の特定の小領域110に分割し、マスク10から感応基板20へのパターンの縮小率を1/Mとしたとき、マスクの連続移動速度VMを感応基板の連続移動速度VWのN・M倍(Nは1より大きい実数)に設定し、感応基板20に投影されるパターンの像と感応基板20との相対速度が零となるように、感応基板20に導かれる荷電粒子線EBを所定速度で連続移動方向に偏向する。

請求項（抜粋）：

マスクおよび感応基板をそれぞれ一回以上連続移動させ、一回の連続移動で、前記マスクの特定範囲に包含される複数の小領域に荷電粒子線を時系列的に照射しつつ各小領域のパターンを前記感応基板の特定範囲に包含される複数の被転写領域のいずれかに選択的に投影するパターン転写方法において、転写露光中には、前記感応基板に投影される前記パターンの像と前記感応基板との相対速度が零となるように、前記マスクから前記感応基板に導かれる荷電粒子線を所定の速度で前記連続移動の方向に偏向することを特徴とする荷電粒子線によるパターン転写方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01J 37/305

FI (5件)：

H01L 21/30 541 J ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 D ,  H01L 21/30 541 S ,  H01L 21/30 541 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 荷電粒子線転写装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-324391   出願人：株式会社ニコン
• 荷電粒子線露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-170616   出願人：株式会社ニコン