一酸化炭素除去用触媒複合体及びそれを用いた一酸化炭素除去方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-355792
公開番号（公開出願番号）：特開2004-188243
出願日： 2002年12月06日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：

【課題】本発明の目的は、低濃度から高濃度まで広範囲の濃度における一酸化炭素の除去が可能であり、常温で長期にわたり高活性を維持することができる、気体中の一酸化炭素除去用触媒複合体及びそれを用いた一酸化炭素の除去方法を提供することにある。【解決手段】平均粒子径が25nm以下の金粒子が金属酸化物に担持された金ナノ粒子触媒とアルカリ性多孔質体とを含有する一酸化炭素除去用触媒複合体、及びそれを用いた一酸化炭素除去方法等に関する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

平均粒子径が25nm以下の金粒子が金属酸化物に担持された金ナノ粒子触媒とアルカリ性多孔質体とを含有する一酸化炭素除去用触媒複合体。

IPC (6件)：

B01J27/232 , A61L9/00 , A61L9/01 , A61L9/16 , A61L9/18 , B01D53/94

FI (6件)：

B01J27/232 A , A61L9/00 C , A61L9/01 B , A61L9/16 , A61L9/18 , B01D53/36 104Z

Fターム (69件)：

4C080AA07 , 4C080BB02 , 4C080CC02 , 4C080CC12 , 4C080HH05 , 4C080JJ04 , 4C080KK08 , 4C080LL10 , 4C080MM02 , 4C080MM03 , 4C080MM04 , 4C080MM05 , 4C080MM06 , 4C080MM07 , 4C080QQ11 , 4D048AA13 , 4D048AB01 , 4D048BA03Y , 4D048BA05X , 4D048BA06Y , 4D048BA07Y , 4D048BA11Y , 4D048BA14X , 4D048BA15Y , 4D048BA34X , 4D048BA36X , 4D048BA41X , 4D048BA45X , 4D048BB01 , 4D048BB02 , 4D048BB08 , 4D048BB17 , 4D048CC40 , 4D048DA03 , 4D048DA13 , 4D048EA01 , 4G069AA03 , 4G069BA02A , 4G069BA03A , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BA07A , 4G069BA08A , 4G069BA08B , 4G069BA47A , 4G069BB02A , 4G069BB02B , 4G069BB04A , 4G069BB04B , 4G069BB05A , 4G069BB16A , 4G069BB16B , 4G069BC01A , 4G069BC03B , 4G069BC08A , 4G069BC33A , 4G069BC33B , 4G069BC66A , 4G069BC66B , 4G069CA02 , 4G069CA03 , 4G069CA07 , 4G069CA14 , 4G069EA02X , 4G069EA02Y , 4G069EA03X , 4G069EA03Y , 4G069EA18 , 4G069EC02X

引用特許：

審査官引用 (5件)

ガス精製用処理剤及びガス精製装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-246235 出願人：日本酸素株式会社
光照射による貴金属担持金属酸化物触媒反応における反応促進方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-158411 出願人：経済産業省産業技術総合研究所長, 科学技術振興事業団
ヘテロ元素含有オキシド化合物の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-138819 出願人：工業技術院長, 株式会社日本触媒

全件表示

前のページに戻る